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氮氧化硅薄膜的研究进展
发布:上海昭沅仪器设备有限公司浏览次数:473氮氧化硅薄膜材料具有优异的热力学介电及光学性能 ,在微电子光学器件等方面有着重要应用其 主要制备方法包括化学气相沉积溅射直接氮化/氧化及离子植入综述了该类材料的制备方法和应用研究进展 , 并指出了制备方法和应用研究的发展方向 TEM用氮化硅薄膜窗口 上海昭沅
2011-03-15相关仪器 -
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