ALTAMIRA公司生产的AMI-90全自动化学吸附仪提供实验室可操作的高精度化学吸附和程序升温反应。AMI-90可以进行脉冲化学吸附，程序升温还原（TPR），程序升温脱附（TPD），程序升温氧化（TPO）和微反应的分析，并且是全自动运行。由此可获得有价值的催化剂、催化剂载体和其他材料的物理化学性能。

全部三种进气站（包括制备、载气和分析）都有4个进气口，提供4种气体的顺序实验。AMI-90配备了高精度的校正的质量流量计，提供极高精度、程序控制的气体流量控制。

AMI-90主要功能

*程序升温脱附TPD *程序升温还原TPR *程序升温氧化TPO *程序升温反应TPRx

*脉冲化学吸附 *催化剂处理 *动态BET比表面分析 *脉冲校准

AMI-90功能特性

l控制范围：在室温至1200度的范围内可进行编程的吸附分析（增加冷浴槽可测定-110度，用于低温化学吸附的测定）

l贝壳式的开关炉子及易于装卸的样品组件

l选择：数字设定，1℃的升温间隔

l线性良好的升温速率：室 温 ～500℃ 70℃/分钟；

500℃～800℃ 50℃/分钟；

800℃～1200℃ 20℃/分钟；

l多达13种LOOP环（分析）可供选择：

微升级有5, 10, 15, 20, 23, 50, 100, 250, 500μL；毫升级有1, 2, 5, and 10mL

l载气：He, Ar,以及其他气体

l制备气体：H₂, O₂, He, Ar等其它气体

l配有质量流量计MFC

l流速：0－100ml/分钟

l进气口数量：共12路，制备、载气和Loop(分析)每一类都有4路进气

l温度控制：仪器内部整体加热到150℃～250℃

l4灯丝的TCD热导池检测器用于测量气体的吸附量，具有良好的稳定性、精度、线性度，敏感性。可选材料（钨，金/钨），可最大限度的满足试验灵敏度和化学兼容性