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PVA TEPLA - 晶圆表面污染分析系统价格:面议
- 品牌: 德国PVA TePla
- 型号:PVA TEPLA
- 产地:德国
Munich Metrology提供了Z先进的,完全整合的VPD测量系统。该WSMS包括前缘的VPD,气相分解,Z先进,精密的化学品输送系统,自动提供所需的所有集成的ICP-MS分析的校准的化学品VP...
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Bruker 纳米压痕仪价格:面议
- 品牌: 德国布鲁克
- 型号:Hysitron TS 77 Select™
- 产地:德国
提供核心测试技术, 包括纳米压痕、动态纳米压痕、纳米划痕、纳米磨损和原位 SPM 成像通过电容式传感器技术,使用静电力驱动同时提供强灵敏度和低温漂具有速纳米压痕功能,可快速对机械性能进行成像,获得具有...
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- 品牌: 德国PVA TePla
- 型号:WSMS
- 产地:德国
品简介产品WSMS - 晶圆表面测量系统 Munich Metrology提供了zuixianjin的,完全整合的VPD测量系统。该WSMS包括前缘的VPD,气相分解,zuixianjin,
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- 品牌: 德国PVA TePla
- 型号:IoN 3B
- 产地:德国
品简介全新!INLINE高产量PECVD系统 (Inline High Capacity PECVD Systems)ILHC是一个连续的高速真空等离子系统。它提供了等离子体辅助化学气相沉积(PECV
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Filmetrics - 薄膜后度量测仪价格:面议
- 品牌: 美国Filmetrics
- 型号:F20 系列
- 产地:美国
产品简介厚度测量产品 F20 系列 - 台式薄膜厚度测量系统只需按下一个按钮,您在不到一秒钟的同时测量厚度和折射率。设置同样简单,
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Bruker - 光学轮廓仪/台阶仪/FTIR价格:面议
- 品牌: 德国布鲁克
- 型号:Ultima活体多光子显微镜系列
- 产地:德国
品简介Ultima活体多光子显微镜系列快速、灵活的活体深层成像平台更深 (970um)、更快 (45FPS@12KHz)、更清楚、并适合大动物成像。 Ultima活体多光子显微镜应用:•
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Suhwoo - 全自动条带研磨系统价格:面议
- 品牌: 韩国Suhwoo
- 型号:SG-2000D
- 产地:韩国
产品简介SG-2000D全自动条带研磨系统 SG-2000D 参数尺寸 ( W x D x H )(3,600 x 1,780 x 2,100) mm重量约 3,000 kg程序控制PC研磨精度±0
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Trymax - 干法刻蚀等离子去胶机价格:面议
- 品牌: 荷兰Trymax
- 型号:NEO200A 系列/NEO300A 系列/ NEO3400
- 产地:荷兰
品简介NEO200A 系列● Hand领 - Dual Cassette - 3 axis robot● Chammber
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Chemcut - 湿法蚀刻设备价格:面议
- 品牌: 美国Chemcut
- 型号:Chemcut 2300 系列
- 产地:美国
产品简介 导线框架(
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Jelight - 紫外氧清洗机价格:面议
- 品牌: 美国Jelight
- 型号:Model 18
- 产地:美国
品简介美国JELIGHT紫外臭氧清洗机JELIGHT 紫外清洗机是一种快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子对有机物质所起的光敏氧化作用以达到清洗粘附在物体表面上的有机化合物(碳氢化合物)的目的。
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NIL Technology - 纳米压印机价格:面议
- 品牌: 丹麦NIL TECHNOLOGY
- 型号:NIL
- 产地:丹麦
产品简介NILT主要产品包括:- 热压和紫外压印服务- 纳米压印模版- 纳米压印设备热压和紫外压印服务高分子聚合物中间层压印技术可以实现纳米压印/热压印非平面化的压印,同时高分子聚合物中间
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AMP - 无掩模曝光机价格:面议
- 品牌: 美国IMP
- 型号:SF-100XCEL/SF-100XPRESS
- 产地:美国
产品简介产品优点微米和亚微米光刻 (最小可达到0.6um线宽) 紫外光直写曝光,无需掩模,大幅节约了掩模加工费用灵活性高,可直接通过电脑设计光刻图形,并可根据设计要求随意调整。可
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OAI - 曝光机 / 光源/ 光功率計及分析价格:面议
- 品牌: 美国OAI
- 型号:Model200/212
- 产地:美国
品简介
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- 品牌: 美国DJ MicroLaminates
- 型号:SUEX/SUEX Plus/ADEX
- 产地:美国
品简介SUEX/SUEX Plus/ADEX干膜光刻胶- 总处理时间:小于5分钟- 卓越的厚度均匀性, 边缘无光刻胶堆积- 高热稳定性-高韧性- 无锑化学环境,无材料浪费 
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- 品牌: 美国MicroChem
- 型号:SU-8 2000 系列/SU-8 3000 系列
- 产地:美国
品简介Microchem的产品分类: Application Note (pdf) SU-8 2000 and 3000 series ResistsKMPR 1000 Photo
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纳米压印模板价格:面议
- 品牌: 丹麦NIL TECHNOLOGY
- 型号:NIL
- 产地:丹麦
IL -根据客户的订单要求进行加工 -优于20纳米的精度 -结构周期底至40nm -适用于热压和紫外压印 -设计制造适用于所有纳米压印设备的模板
- 产品分类
- 品牌分类
- 光谱仪/拉曼光谱仪
- 科学级CCD 探测器
- 光学光电与太阳能光伏
- 太阳能相关
- IC封装与测试
- 晶圆制造
- 激光器/功率计
- 等离子刻蚀设备(PECVD)/反应式离子刻蚀(RIE)/Remover
- 镀膜设备
- 光刻胶耗材
- (美国)美国Jelight
- (德国)德国LTB Lasertechnik Berlin
- (美国)美国DJ MicroLaminates
- (日本)奥林巴斯
- (美国)美国OAI
- (日本)日本Nippon Kayaku
- (美国)美国IMP
- (韩国)韩国Suhwoo
- (美国)美国Chemcut
- (韩国)韩国NOST
- (美国)美国Qimaging
- (香港)香港Teltec
- (美国)美国EOS
- (荷兰)荷兰Lambert
- (美国)美国Semrock
- (荷兰)荷兰Trymax
- (美国)美国BNC
- (丹麦)丹麦NIL TECHNOLOGY
- (美国)美国RTI
- (美国)赛默飞世尔
- (美国)维易科
- (美国)美国科洛玛
- (美国)美国Ocean Insight
- (美国)美国IPS
- (加拿大)加拿大gentec-eo
- (美国)美国Filmetrics
- (以色列)以色列Camtek
- (美国)美国MicroChem
- (美国)美国PV measurements
- (美国)美国ONDAX
- (美国)相干
- (美国)美国CrystaLaser
- (美国)美国ABET Technologies
- (美国)美国Mechanical Devices
- (美国)美国Mechanical Devices
- (美国)美国Heller INDUSTRIES
- (美国)美国DJ Devcorp
- (美国)美国安维谱
- (美国)普林斯顿
- (美国)美国Photometrics
- (美国)SONIX
- (美国)美国Nisene
- (美国)美国Royce
- (美国)丹顿真空
- (英国)英国LaserQuantum
- (美国)美国Micro Control Comp
- (英国)英国AML
- (美国)美国WEB Technology
- (德国)德国布鲁克
- (美国)inTEST
- (法国)法国普发真空
- (美国)美国HILEVEL
- (德国)德国PVA TePla
- (美国)美国Akrometrix
- (德国)德国YXLON
- (美国)美国Frontier Semiconductor
- (德国)德国Microtronic
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仪企号香港电子器材有限公司
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