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无任何类型的缺陷损坏和修复风险
兼容双EUV光罩盒
用于定位缺陷和修复后验证的多效合一型解决方案
无光束静电
无化学使用
无真空要求
纳米级分辨率和修复精度
在同一系统可实现检测扫描，到修复，到验证的功能
经济型高品质低成本
Park NX-Mask 基于AFM的 EUV光罩修复及其他性能 核心参数
| 仪器分类: | AFM |
详细介绍
Park NX-Mask
基于AFM的 EUV光罩修复及其他性能
Park NX-Mask是一款用于修复高端EUV光罩的创新型机台。
Park NX-Mask 采用崭新的原子力显微镜技术，配有新一代的
光罩修复系统，用于解决随着器件尺寸缩小和光罩复杂性
增加带来的新式挑战。从自动缺陷检测到缺陷修复再到修复验证的
一站式解决方案为您提供了专业高速的修复效率，
让您的研究工作事半功倍。
使用AFM探针安全可靠地修复缺陷
来自 EUV 光源的锡 (Sn) 颗粒等碎片可能会落到光罩上并降低其光反射率。Park NX-Mask 利用其成熟的纳米机械 AFM 技术，以安全可靠的方式发现并去除外来颗粒、修正复杂的图案缺陷。与传统的光罩修复系统相比，Park NX-Mask能在不造成任何损坏或扰乱光罩表面的情况下精 准执行修复。
安全
优异性
用于自动和无缝修复的
在线生产
Park NX-Mask提供专业的解决方案，支持在线生产的双EUV光罩盒。
用于定位缺陷和修复后验证的非接触原子力显微镜技术
首先，Park NX-Mask 利用其专有的非接触式 AFM 技术进行全方位扫描以确定缺陷位置。此技术安全高效。在全方位扫描过程中，Park NX-Mask 不仅能精 准计算缺陷数量并且定位缺陷位置，还能获悉每种颗粒和缺陷的各类信息。 修复后，Park NX-Mask采用AFM真正非接触式技术进行修复后的验证，生成纳米级3D形貌和其他关键性的计量数据，如表面粗糙度。
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仪企号
Park System Corp.
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