原子层沉积系统

原子层沉积系统 主要特点  超高反应腔工作温度（高达400℃ ）  复杂管气路，可同时满足8种前驱体、2路氧化还原气路、和3路载气要求 全程序化控制ALD反应流程, ALD流程可以任意调整。  满足特殊样品（粉末）要求  适合低蒸气压固态金属源的高温鼓泡器设计，有利于提高其实验重复性  全金属密封，适用于腐蚀性反应  实时测控气体流量  实时监测真空度  质量分析仪系统，原位分析气体成分  自带臭氧发生器  反应残留物热分解装置 技术参数  主腔体 • 腔体尺寸: 内径40mm ×长度 980mm, 304SS • 工作温度: RT-400℃ • 控温精度: ±1℃  前驱体运输 • 4个低温前驱体源 (RT-100℃): [(CH3)3Al]2, [(CH3)3Ge]2, H2O etc. • 4个高温前驱体源 (RT-250℃): Fe(Cp)2, Precious Metal Precursors • 控温精度 : ±1℃ 