德国Allresist/Allresist

德国 ALLRESIST 紫外光刻胶，各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g...

德国Allresist 特殊工艺用光刻胶，电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶），全息光刻用胶，长波曝光胶， 深紫外曝光胶等特殊工艺用胶

德国Allresist 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist） 电子束正胶：PMMA 胶，PMMA/MA 聚合物， LIGA 用胶等。 电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（...

德国 ALLRESIST 紫外光刻胶，各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g...

德国ALLRESIST防护涂层PMMA Electra 92 (AR-PC 5090) 用于非氮基电子束电阻的导电保护涂层 用于在绝缘衬底上耗散电子束电荷的顶层

德国Allresist 正电子束光刻胶 AR-P 610系列 用于纳米光刻的 AR - P617电子束电阻 共聚物抗蚀剂系列用于生产集成电路和掩模

德国Allresist 正电子束光刻胶 AR-P 6200 (CSA-62)，高分辨率，用于生产集成电路和掩模的高对比度电子束电阻。