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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统价格:面议
- 品牌: Forge Nano
- 型号:PANDORA
- 产地:美国
PANDORA 是高度集成的台式原子层沉积系统,可摆放在实验室的任意角落,采用旋转式反应腔实现对粉末材料的分散,有更高的兼容性。对于平面样品,则可快速插入平面反应台,实现样品的切换。PANDORA 高...
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PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统价格:面议
- 品牌: Forge Nano
- 型号:P 系列
- 产地:美国
粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命,如锂电正极或负极材料,经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升,但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主,该方法包覆均匀性较差,性能提升有限。A...
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THEIA 超快平面原子层沉积系统价格:面议
- 品牌: Forge Nano
- 型号:THEIA
- 产地:美国
THEIA 是一款高性能,稳定,灵活,可靠且安全的研发型原子层沉积系统,兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造,从而满足科学研究的各种需求,并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。
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Forge Nano
Forge Nano是使用原子层沉积的表面工程和精密纳米涂层技术的全球领导者。Forge Nano 的专有技术和制造工艺使埃厚涂层快速、经济实惠且具有商业可行性,适用于各种材料、应用和行业。Forge Nano 的 ALD 和 PALD 产品和服务套件涵盖了从实验室规模工具到商业规模制造系统的全部范围。
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Forge Nano解决方案
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原子层沉积用户分享|研发高能量密度固态锂硫电池
01用户前沿成果分享文章:High Sulfur Loading and Capacity Retention in BilayerGarnet Sulfurized-Polyacrylonitril...
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原子层沉积(ALD)揭秘:成功开发、优化和表征 ALD 的 10 个步骤
原子层沉积技术(ALD)是一种一层一层原子级生长的薄膜制备技术。理想的 ALD 生长过程,通过选择性,把不同的前驱体暴露于基片的表面交替,在表面化学吸附并反应形成沉积薄膜。 由于前驱体和共反...
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原子层沉积 ALD 用户分享:光伏硅切割废料制备高性能硅基负极
用户前沿成果分享 文章:Controllable Interface Engineering for the Preparation of High Rate Silicon A...
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如何让您的锂电池发挥更大效能?试试Forge Nano 先进原子层沉积(ALD)技术!
如何让您的锂电池发挥更大效能?试试先进原子层沉积(ALD)技术!当今世界正处于转变期,全力迈向电动社会——一个节能减排、实现气候目标并抵御严峻气候变化的社会。为了实现这一转变,我们需要新的材料和技术,...
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