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设备特点： 1、广泛用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境； 2、该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理； 3、可选用液晶屏触摸界面，详细的界面操作提示，使得设备的操作异...

设备特点： 此款高温管式炉广泛用于：真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。该设备技术成熟，质量可靠，温场均匀，结构合理，并可选用液晶屏触摸界面，周到的界面操作提示，使得设备的操作异常...

设备特点： 1、广泛用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境； 2、该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理； 3、可选用液晶屏触摸界面，详细的界面操作提示，使得...

主要特点 　　1.此款设备提供两个独立滑动的温场，两温场独立控制，每个温场的加热区的长度为230mm，可在实验过程中推进或推离样品，提供两个位置的快升降温。 　　2.纵向多接口真空法兰设计，各...

箱式炉MF-1200C-L 主要特点 保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能; 炉体采用双层风冷结构，炉子烧到ZG温度时，壳体表面温度低于60℃ 采用多种保...

主要特点Main features:　　Big tube size , long constant tem. zone, precise tem., suitable for multi-sampl

多工位真空管式炉炉体可做0-180°旋转，可做横向、垂直、各种角度倾斜等多个工位实验满足客户不同的实验需求。此外该炉具有真空装置，可在不同工作角度和多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。 主要特点：...