详细介绍
产品介绍：
SMEE 200系列光刻机 —— TFT曝光
SSB200系列投影光刻机采用投影光刻机平台技术，用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造，可应用于2.5代～6代的TFT显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性，支持6英寸掩模，显著降低用户使用成本。
产品特征
● 高精度，分辨率可达1.5μm
● 支持小Mask，可用6英寸掩模实现12英寸屏幕制造
● 具备智能化校准及诊断功能，方便设备参数校调及用户周期性维护
主要技术参数
型号 | 分辨率 | 套装精度 | 基板尺寸 |
SSB225/10 | 2μm L/S | 0.6μm | 370mm×470mm 500mm×500mm |
SSB225/220 | 1.5μm L/S | 0.5μm | 370mm×470mm 500mm×500mm |
SSB245/10 | 2μm L/S | 0.6μm | 730mm×920mm |
SSB245/20 | 1.5μm L/S | 0.5μm | 730mm×920mm |
SSB260/10T | 2μm L/S | 0.6μm | 1300mm×1500mm 1500mm×1850mm |
SSB260/20T | 1.5μm L/S | 0.5μm | 1300mm×1500mm 1500mm×1850mm |
产品优势
SSB200系列投影光刻机采用投影光刻机平台技术，用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造，可应用于2.5代～6代的TFT显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性，支持6英寸掩模，显著降低用户使用成本。
