详细介绍
产品介绍：
SMEE 600系列光刻机 —— IC前道制造
SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
主要技术参数
型号 | SSA600/20 | SSC600/10 | SSB600/10 |
分辨率 | 90nm | 110nm | 280nm |
曝光光源 | ArF excimer laser | KrF excimer laser | i-line mercury lamp |
镜头倍率 | 1:4 | 1:4 | 1:4 |
硅片尺寸 | 200mm或300mm | 200mm或300mm | 200mm或300mm |
产品优势
SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
