全反射光学设计； F/2.2 大通光孔径
高效率凸面光栅；消除梯形失真和曲线弯曲
宽波谱范围；杰出的光谱/空间分辨率
理想的弱照明、弱信号环境下的应用
结构紧凑、宽视场角
非常高的信噪比；低散射或者杂散光水平
稳定和耐用的坚固设计；高性价比，多种标准镜头选配
详细介绍
核心优势：
名称 | VNIR成像光谱仪 | SWIR成像光谱仪 | SWIR成像光谱仪 |
光谱范围（nm） | 400-1000 | 900-1700 | 1000-2300 |
分光类型 | 凸面光栅分光 | ||
光谱分辨率（狭缝25um） | 3-4 nm | 优于10 nm | 10nm |
光谱分辨率（狭缝12um） | 1.5-2 nm | 优于5nm | / |
光学孔径F/# | F/2.2 | ||
狭缝高度 | 12mm | ||
像素色散值 | 0.6nm | 3.6nm/pixel | 7nm |
光谱波长精度（nm) | 优于1 | 优于2 | 优于4 |
光学系统效率（平均） | 60% | ||
光谱通道 | 256-1152(可编程） | 220 | |
空间通道 | 2048 | 320 | |
SCMOS相机 | 像元：6.5um*6.5um像元 数：2048*1152 QE＞70%@595nm | 像元：15um*15um 像元数：640*512 | 像元：30um*30um 像元数：320*256 |
数据量化位数 | 16 | 12 | |
前置镜头 | 焦距17mm | 焦距4.8-70mm,可选配 | |
仪器重量（kg） | 4.2 | 4.5 | |
尺寸（mm) | 215*175*110 | 260*175*110 | |
产品优势
基于offner型的凸面光栅分光系统，其原理新颖，相比较其他分光系统具有光学相对孔径大、色散线性度好、结构 紧凑和图像成像质量佳等优点。该种类型组成的成像光谱仪在效率（能量利用率）和光学畸变相比较其他类型的成 像光谱仪中性能表现Z佳。系统中由于采用专门研制的闪耀光栅，平均效率高达60%以上，替代了美国headwall 高效率成像光谱仪系列产品（注：该类型产品被美国列为为禁运）。匹配的相机采用SCMOS相机，平均量子效率 高达60%，灵敏度和性能达到了EMCCD 相机的水平。
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仪企号
上海波铭科学仪器有限公司
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