Candela 8520

产品介绍

Candela 8520检测系统采用专 利光学技术，可以同时测量两个入射角度的散射信号。它还能够自动检测并捕获表面反射、表面形貌变化、相位变化和光致发光信号，并对各种关键缺陷(DOI)进行分类。Candela 8520可以为GaN晶圆提供表面和光致发光缺陷检测，对GaN晶体缺陷、凹坑和孔洞进行检测和分类，并可用于GaN外延设备缺陷控制。功率器件应用包括SiC透明晶圆的晶体缺陷和表面缺陷的检测和分类，其中包括BPD（基平面位错）、微管、堆叠层错、晶界、位错，以及三角形缺陷、胡萝卜缺陷、掉落物缺陷和划痕等形貌缺陷。

主要功能

• 检测宽禁带材料上的缺陷，包括直径50mm~200mm的SiC和GaN（衬底和外延）

• 支持多种不同的晶圆厚度

• 检测颗粒、划痕、裂纹、污渍、凹坑、凸起、KOH腐蚀、掉落物、表面三角形缺陷和胡萝卜缺陷、基平面位错、堆叠层错、晶界、位错和其他宏观外延缺陷

应用案例

• 衬底质量控制

• 衬底供应商比较

• 入厂晶圆质量控制 (IQC)

• 出厂晶圆质量控制 (OQC)

• CMP（化学机械抛光工艺）/抛光工艺控制

• 晶圆清洗工艺控制

• 外延工艺控制

• 衬底与外延相关分析

• 外延反应设备供应商比较

• 工艺设备监控

工业用途

• SiC和GaN功率器件

• 其他高端化合物半导体器件

系统选项

• SECS-GEM

• 信号灯塔

• 金刚石划片器

• 校准标准片

• 离线软件

• 光学字符识别 (OCR)

• 光致发光