光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。光刻胶根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶;反之,对某些溶剂是不可溶的,经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能,将光刻胶作涂层,就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。
品牌介绍:深圳市科时达电子科技有限公司创建于2011年,经过十年的发展,已经成长为一家专注于电子材料、半导体仪器设备、医疗设备三大产品领域的,是一家集研发、制造、销售为一... [查看更多]
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