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       高纯氢气发生器使用氢氧化钾溶液作为电解质，然后通过电解获得氢。氢氧化钾是一种强电解质，可以在水溶液中完全分解为带正电的钾离子和带负电的氢氧化物。离子并与水形成复合离子。由于溶液中存在大量离子，因此在施加直流电时，溶液中的正离子和负离子分别向两个极移动。在电解池中，氢在阴极产生，氧在阳极产生。氢通过阴极出口进入气水分离器并冷凝分离。然后，液体装置进入过滤器，并在吸附净化后连续离开出气口，同时氧气自然地从电解池储液罐的氧气出口排出。

在使用中，作为用户，您应该了解一些常见的氢气发生器故障的解决方案。

1.干燥管中的水：

1）液体回流：更换气水分离器或使其重新运行。

2）硅胶质量差或不能完全再生：更换硅胶或最长的烹饪时间通常是在120摄氏度下12个小时。

2.设备漏气：压力表值小于设定值（设定值一般为0.3MPa）或为零，输出值流量大于使用的实际值气流量。

       解决方案：使用肥皂水检查干燥管两端的气泡。如果有气泡，则说明干燥管泄漏。此时，旋开干燥管，然后重新组装或更换密封环或更换干燥管。

       如果干燥管没有泄漏，请塞住氢气出口，并让仪器进行自检。如果自检结果表明仪器泄漏，请打开外壳以检查仪器内部气体回路的所有接口处是否泄漏。如果检查失败，建议与供应商联系。要获得商务和技术部的技术支持，如果自检未泄漏，请检查仪器泄漏后的气路。

       如今，高纯度制氢机可广泛用于分析实验室，例如制药，食品，环境保护，生物学，石化，烟草，出入境检验检疫，疾病控制，科学研究所，等，并可以为现代分析实验室提供理想的解决方案。供气解决方案系统方案。

       高纯氢气发生器广泛应用于石油、化工、等领域，可同时或单独产生高纯氮、高纯氢和纯净空气，取代高压气瓶，并以其方便、安全、稳定和的售后服务受到用户的好评，日常使用只需补充蒸馏水，启动电源开关即可产氢；桶式电解池，电解材料选用进口特制贵金属，有效的提高电解效率，恒定池体温度，促使电解池使用寿命大大提高；输出流量稳定，自动跟踪，纯度不衰减，可连续使用。

　　3、钯薄膜净化系统：相比于以上两种净化系统，钯薄膜净化系统的原理在于利用高温下只有氢原子才能穿透钯银合金薄膜的特性来进行净化。当氢原子穿透钯银合金薄膜之后，在钯薄膜的另一侧，单原子氢重新组合为双原子氢气。

（来源：南京普拉勒科技有限公司）

氢气发生器主要由电解系统、压力控制系统、净化系统和显示系统组成。通过电解水产生氢气，产生的氧气则放空进入大气。具有电解面积大、池温低、性能好、产气量大、纯度高的优点。
高纯氢气发生器的使用注意事项：
1、将仪器背面出气口的密封螺母取下。(请将其保存好，以便今后自检仪器用。)
2、用一根外径Φ3气路管将自检合格的氢气发生器出气口与色谱仪氢气进气口连接，拧紧螺母密封性必须良好。
3、气路连接好以后，打开氢气发生器电源开关。与色谱仪联机使用。
4、仪器使用时应注意流量指示是否与色谱仪用气量一致，如流量指示超出色谱仪实际用量较大时，应停机检漏，其方法参照仪器的故障原因与排除方法进行调整，再用自检方法检查合格后方可使用。
5、定期检查过滤器中的硅胶是否变色，如变色请马上更换或再生。其方法为，拧下过滤器，再拧开过滤器上盖，更换硅胶后拧紧过滤器上盖，将过滤器装到底座上拧紧。并检查是否漏气。
6、仪器使用一段时间后，电解液会逐渐减少，当电解液位接近下限时应及时补水，此时只需加入二次蒸馏水即可，加液或加水时液位不要超过上限，也不能低于下限。
7、当仪器使用半年后，请更换电解液。(氢气发生器使用氢氧化钾溶液的浓度为10%左右。)
8、仪器切勿在压力为"0"时空载运行。空载运行时会将电解池和开关电源部件烧坏。造成整个仪器损坏。
9、用户不要自行将电解池拆卸打开，(用户无法自行修理)以免影响整机运行。
10、仪器如需搬运时请将储液桶的电解液用洗耳球吸干净，装好内盖后将外盖拧好，以免残留的电解液在运输时外溢，将整个仪器腐蚀造成无法修复的后果。

       近年来实验事故频发，实验室安全越来越受到高校、科研工作者等的重视，实验室是智慧迸发的场所，许多重大科研结晶都是在实验室诞生，因此实验室的安全应严格落实到每个实验人员，部门的心里。

       氢气发生器作为制取氢气的一种空气发生器，通常与GC联用，主要由电解系统、压力控制系统、净化系统和显示系统组成。氢气在常温常压下，是一种极易燃烧，无色透明、无臭无味且难溶于水的气体，正因此如此，每个使用氢气发生器的操作人员更应谨慎地对待氢气发生器的使用环境，以确保实验的有序进行和实验室及人员的安危。

       普拉勒作为实验室气体发生器行业的主要供应商实验室气体发生器行业的主要供应商，其生产的高纯氢气发生器对实验室环境有哪些要求呢？下面列举几点希望能给大家做个参考。

普拉勒高纯氢气发生器运行环境要求

1.由于氢气的化学性质，显而易见，氢气发生器的实验场所要保持好通风，控制相应的气体浓度，以免对人员和实验室带来危险。

2.避免仪器处于高温和阳光的直射下引起仪器自燃带来潜在的危险，因此普拉勒高纯氢气发生器要做避光处理。

3.氢气发生器所处的工作台需要平稳，以免在运行的过程中产生振动影响实验的进行。

普拉勒高纯氢气发生器仪器特点

1、采用SPE固态电解质技术。

2、无需用碱，直接电解纯水有效的保护色谱柱。
3、采用英国Peculiar研发离子膜（ZL技术）；采用分子筛耐用干燥剂，使氢气纯化更加彻底，以产生纯度为99.9995% 的氢气，确保结果的重现性。
4、仪器内部采用英国Peculiar硅橡胶圈(含硫量低)，有效提高气体质量，保证GC基线平稳。
5、压力及流量均采用一体化微电脑的控制。
6、自动水位控制，当缺水状态时，自动停机，自动补水功能Hydrogen-500（S）水量低于15%时，由外置水箱自动补水，无需停机加水。有效保护电解池，延长使用寿命。

7、漏气自动检测。

8、紧凑设计，占用空间小。

 9、环保过滤器，安装，操作简单。

10、可满足任何型号任何厂商生产的GC的使用。

       半导体制造技术作为信息时代制造的基础，堪比工业时代的机床，是整个社会发展的基石和原动力。在国际产业分工格局重塑的关键时期，我国也提出了《ZG制造2025》，以通过智能制造实现由制造大国向制造强国的转换。智能制造（工业4.0）的实现，以各种信息器件的使用为基础，半导体制造技术正是其制造的核心技术。
       而氢气作为半导体制造中的气源，在半导体材料及器件制备中起到至关重要的作用。可在光电器件、传感器、IC制造中应用。
       目前半导体工艺中氢气主要用于退火、外延生长、干法刻蚀等工艺。
       退火是通过高温加热释放材料内部应力从而改善材料质量的一种材料处理办法，氢气作为保护气可以起到防止氧化等作用，多用于薄膜生长后释放应力。
       氢气也可以应用在化学气相沉积（Chemical Vapor Depositon）薄膜生长。化学气相沉积是一种利用固态-气态反应、气态-气态反应生成薄膜的设备，如在CVD工艺中作为还原性气体制备二维材料MOS2、WS2等；等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺中作为还原性气体制备石墨烯、单晶硅、碳化硅等；电子回旋共振化学气相沉积（ECR-CVD）中作为反应气体在单晶硅衬底上制备金刚石薄膜；金属有机化学气相沉积（MOCVD）设备中作为载气制备光电材料GaN、AlGaN等。同时氢气也可以在原子层沉积（Atomic Layer Deposition）中使用。
       氢气在等离子体刻蚀（RIE/ICP）中作为反应气体出现，等离子体刻蚀原理是利用反应气体离化后与材料发生反应生成挥发性物质，从而实现材料图形化，是半导体器件制备的必备工艺。
       普拉勒氢气发生器目前已大量应用在以上工艺中，为半导体材料及器件制备提供Z好的气源。

       普拉勒Z新打造拳头产品:大流量高纯氢气发生器Hydrogen-17L可与普拉勒超纯水机联用，由超纯水机制取二级水，并储存至水箱备用。氢气发生器缺水时，自动供给至氢气发生器。多台氢气发生器可串联使用，通过串联控制线由一台发生器控制其他发生器，实现产气均匀分配。（以两台设备为例控制图如下）

大流量高纯氢气发生器Hydrogen-17L主要技术参数

◎ 氢气纯度： 99.999-99.9999% 

◎ 氢气流量：1m³ /h 

◎ 输出压力：0-80psi（约0.5MPa） 

◎ 压力稳定性：< 0.001MPa 

◎ 供电电源：220V±10% 50HZ 

◎ 消耗功率：8kw 

◎ 纯水需求：＞2MΩ&1L/h

◎ 氢气容积：＜20L 

◎ 环境温度：1-40℃ 

◎ 相对湿度：<85% 

◎ 海拔高度：＜2000米 

◎ 外形尺寸：80x90x100（WxDxH cm） 

◎ 净重：约200kg

仪器特点

◎ 仪器的全部工作过程均由程序控制，自动恒压、恒流，通过串联控制线，可实现多组并联使用。 

◎ 使用固态电解质（PEM）法产生氢气，以超纯净水原料，以固体聚合物为电解质，贵金属 做电极有效的除湿装置，降低了原始湿度，纯度稳定。 

◎ 操作方便使用时只需打开电源开关即可产氢，使用后无需泄压，直接关闭电源即可。可连续使用，也可间断使用，产氢量稳定不衰减。 

◎ 安全可靠：配有安全装置，电解超纯水制氢，无腐蚀、无污染，配有压力控制，缺水自动监控，漏气自动检测。 

◎ 配备纯水系统，完成自来水进水完成大流量的氢气制备