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微纳光学是当前光学学科发展最活跃的前沿之一，结合了光子学与纳米技术的前沿成果，主要优点是能在局域电磁相互作用的基础上实现许多全新的功能，成为 21 世纪国家不可或缺的关键科学和技术。微纳光学不仅是光学领域的前沿研究方向之一，也是目前新型光电子产业的重要发展方向，在光通信、光互联、光存储、传感成像、传感测量、显示、固体照明、生物医学、安全、绿色能源等领域起到不可替代的作用。

光学工程学会组织召开“第四届微纳光学技术与应用交流会”，将于2020年9月26日-28日在成都举办，旨在为我国从事相关研究的科技人员和产业应用的团队搭建无缝对接的平台，形成合力，促进微纳光学自身的快速发展及其在应用领域的产业发展。

东隆科技作为本次参会企业之一，将携手德国PicoQuant联合展示全自动紧凑型模块化荧光寿命光谱仪FluoTime250、时间分辨共聚焦荧光显微系统MicroTime200、共聚焦显微系统荧光寿命升级套件LSM Upgrade Kit、时间相关单光子计数器（TCSPC）、单光子探测器等产品，欢迎您届时莅临现场与我们交流探讨。

主办单位

ZG光学工程学会

承办单位

电子科技大学基础与前沿研究院

ZG科学院光电技术研究所

电子科技大学四川省地质环境智能检测国际联合研究ZX

西南技术物理研究所

福建师范大学

电子薄膜与集成器件国家ZD实验室

微纳光电子集成技术专家委员会

会议地址

地点：成都

各分会主题

①  半导体微纳米光电材料

②  半导体微纳米光电器件

③  二维材料

④  纳异质结构与量子光电子学

⑤  超构材料与表面等离激元器件

⑥  微纳制造

⑦  微纳传感

⑧  先进成像

⑨  先进显示

⑩  光计算

⑪  能源光电子

会议安排

2020年9月26日:会议注册

2020年9月27日上午:大会开幕式+大会报告 

2020年9月27日下午-28日:分ZT专家特邀报告、交流

       环境与气候变化已成为当今人类社会十分关心的问题。利用现代科学技术尤其是现代光学技术研究环境与气候临界点、引爆要素，达到优化环境控制系统的目的已成为环境光学人的义务和责任。在面向国家生态环境领域的战略需求，共同探讨我国环境光学领域的重大科学问题、ZX研究成果，加强国内外著名专家的学术交流与合作，促进环境光学科学发展的新形势下，ZG光学学会环境光学专业委员会定于2020年9月25~27日在山西省太原市举行“第五届全国环境光学学术会议暨ZG光学学会环境光学专业委员会2020年学术年会”。

      本次会议主旨为在发展环境光学理论、方法的基础上，积极探索量子精密测量在环境光学上的应用、发展。围绕该主旨，会议将邀请国内外相关领域专家、学者进行广泛而深入的交流与研讨。

东隆科技作为本次参会企业之一，现场将展示PPLN晶体、NEL-DFB半导体激光器、AdTech蝶形封装连续量子级激光器和HHL封装量子级联激光器、光电探测器、半导体激光器控制器、各类封装形式夹具及标准气室等众多产品，欢迎您届时莅临现场交流探讨。

主办单位

ZG光学学会环境光学专业委员会

承办单位

山西大学激光光谱研究所

中科院安徽光学精密机械研究所

山西省光学学会

安徽省光学学会

会议地址

地点：西安•太原

会议主题

（1）地基/机载/星载光学遥感技术

（2）海洋光学及海洋探测技术

（3）海洋光谱、光电传感及环境监测技术

（4）量子精密测量、传感及应用

会议安排

2020年9月25日：现场注册

2020年9月26日~27日：开幕&各分会报告&闭幕

      ZG激光雷达科学技术发展迅猛，在激光雷达研制、探测遥感应用方面具有一定的特色，取得了一批得到国际认可的科研成果。随着激光雷达在大气、环境、空间、测绘、遥感及光电工程等领域的应用越来越广泛，激光雷达事业的发展迎来了极大的机遇与挑战。为推动激光雷达遥感在国民经济各个领域的快速应用，ZG光学工程学会和西安理工大学联合主办，联合中科院上海光机所、中科院安徽光机所、ZG海洋大学、武汉大学、兰州大学、北方民族大学、中科院光电技术研究所等多家核心研制与应用单位，将于2020年9月22日-24日在西安建国饭店举办“第六届ZG激光雷达遥感学术会议”。

     东隆科技作为本次参会企业之一，将携手德国PicoQuant、美国Quantum Opus、意大利Micro Photon Devices、英国Photon Force、德国Laser Components、意大利NIREOS和美国Wavelength References强强联合展示，专注于单光子计数和弱光检测领域，致力于为国内用户提供ZY质的产品方案和技术服务。届时欢迎来自各大高校、科研院所等从事光学及激光雷达遥感的专家、科研人员、生产人员、博士生、硕士生莅临现场交流探讨。

主办单位

ZG光学工程学会

西安理工大学

会议地址

地点：西安建国饭店

会议安排

2020年9月22日：现场注册

2020年9月23日上午：大会开幕

2020年9月23日下午-24日上午：各分会ZT报告

2019年9月24日下午：大会闭幕

为建立深度的沟通平台、达成良好的合作共识、促成双方携手共赢的局面，西努光学于9月11日赴日联科技参加业务交流会。

此次交流会主要有三大议程，首先是日联科技营销部负责人王总介绍了日联科技的企业发展历程、产品应用领域及特点、市场定位等，让西努光学对日联的品牌优势和行业影响力等方面有了全方向的了解。

日联科技技术部辛总监带领我们参观了日联科技的企业展厅和现代化工厂，实地讲解并进行了设备演示、样品测试。大家都对X射线检测设备展现出浓厚的兴趣，围绕设备积极相互交流。

日联科技电子SMT、锂电池、工业无损检测等事业部相关负责人对设备介绍和理论知识的讲解。

此次交流会在双方对未来充满憧憬中圆满落幕，我们带着热忱而来，满载收获而归。此次交流会也为今后双方持续深入的合作奠定了更新坚实的基础，为未来加深合作注入了强劲动力。

2020年12月4日-7日，由ZG激光杂志社和ZG科学院青年创新促进会主办，鄞州区人民政府支持的第四届光学青年科学家论坛即将在浙江宁波拉开帷幕。滨松ZG受邀参加。

在此次大会中，滨松ZG产品技术工程师齐昕将分别在12月6日ZT2”光场调控与非线性光学”和12月7日ZT9“光学成像”专场分别发表题为“空间光调制器 LCOS-SLM 的原理及其在光场调控中的应用”以及“高速高灵敏度的不懈追求——sCMOS 相机的发展与滨松下一代sCMOS 的目标”的两场ZT技术报告，将ZD与大家分享滨松空间光调制器的相关技术要点以及滨松sCMOS 相机的ZX发展历程。届时，滨松ZG销售工程师也会全程在场，期待您前来交流。

2020年11月7日-8日，由西安电子科技大学与华侨大学等多家单位联合主办的第四届“计算成像技术与应用”ZT研讨会在厦门WM落幕。此次会议参会人数高达500余人，现场座无虚席，人气火爆。本届会议主题为：计算成像，一切皆有可能。

自2017年， “计算成像技术与应用”ZT研讨会至今已成功举办四届，每届会议都在行业内产生重大影响，这更像是整个计算成像技术研究人员的“年会”，平均每届与会人员达到三百多人，本次会议更是达到了参会人数的历史新高，这也反应了行业的不断发展与壮大，凌云光也作为重要支持单位连续两年参加会议。

凌云光与计算成像 

2013年，凌云光&清华大学共同建立了北京市多维多尺度计算摄像学实验室，2016年、2017年、2018年，以实验室为依托连续三年举办了 “多维多尺度计算摄像学产业及应用创新大会”，获得专家学者的认可，受到各界行业专家学者的关注和支持。一直以来，凌云光持续关注计算成像技术发展，并应用到公司的技术研究、产品创新以及客户需求中，以推动行业发展为己任，不断学习与创新。

本次会议，凌云光技术股份有限公司总裁助理杨影女士基于公司20多年在视觉图像领域的经验，以“视觉让生活更美好”为题介绍了推动光学测试仪器发展的一个重要的目标就是不断追求：要看得见、然后看得清楚、ZH看得准确和明白。目前成像器件正按照：高分辨率、全光谱范围、高速与高灵敏、高动态范围、3D 立体等 5 个纬度不断提高，提供超过人类视觉极限的成像能力，改善我们的生活。

报告还与各位专家学者分享了近年来，依托“计算成像技术”凌云光在工业、立体视觉、生命科学等方向进行了深入研究与探索，更是与清华大学、上海微系统所、南京大学等科研单位深度合作，创新设计了多款视觉器件和科研仪器。杨影总也表示，凌云光会继续努力与各位专家学者一起推动计算成像技术的发展。

<span style="box-sizing: border-box; color: rgb(136, 136, 136);" 255);"="" 255,="" rgb(255,="" normal;="" justify;="" 0.544px;="" 14px;="" sans-serif;="" arial,="" yahei",="" ui",="" yahei="" "microsoft="" gb",="" sans="" "hiragino="" sc",="" "pingfang="" neue",="" helvetica="">▲凌云光技术股份有限公司总裁助理杨影女士报告《视觉让生活更美好》

部分精彩报告回顾

此次会议组委会邀请了国内计算成像领域的知名专家和学者到会交流，针对计算成像领域的前沿技术和ZX研究成果深入探讨，旨在促进计算成像技术发展，为相关领域人员提供交流新思想、切磋新技术的舞台，促进相关学科的科技创新和成果转化，提高计算成像研究方向的教学科研水平及计算成像研究在光电成像技术领域的影响力。

历时两天，本次研讨会落下帷幕，各位参会者收获颇丰，在会议结束时主办单位西安电子科技大学邵晓鹏教授也表示：开展本次研讨会的宗旨是为了激励更多的人参与到计算成像中来，带着开放包容的心态，将“蛋糕”做大。华侨大学蒲继雄教授表示了对邵晓鹏教授的感谢，认为本次参会的学生将是计算成像界的未来，并祝福他们的未来灿烂发光。

凌云光也将和各位专家一起，以推动计算成像技术的发展和应用为使命，继续走在计算成像技术探索的道路上，期待下一届“计算成像技术与应用”ZT研讨会的举行！

第四届微流控技术应用创新论坛在广东省深圳市宝安区沙井镇沙井路118号的维纳斯会议酒店国际会展店于2020年12月5日到7日召开。

微流控（microfluidics） 是一种精确控制和操控微尺度流体， 以在微纳米尺度空间中对流体进行操控为主要特征的科学技术， 具有将生物、 化学等实验室的基本功能诸如样品制备、 反应、分离和检测等缩微到一个几平方厘米芯片上的能力， 其基本特征和ZD优势是多种单元技术在整体可控的微小平台上灵活组合、 规模集成， 是一门涉及工程学、 微电子、 新材料、 物理学、 化学、微加工和生物工程等领域的交叉学科。

      11月7日，第四届“计算成像技术与应用”ZT研讨会在厦门顺利举办。会议邀请国内计算成像领域数百名专家学者到会共同交流，深入探讨计算成像领域前沿技术和ZX研究成果。富煌君达携千眼狼高速摄像仪及多款“硬核”解决方案亮相，创始人吕盼稂研究员作为高速图像测量领域ZS专家受邀参会，并作精彩报告。

      本届会议以 “计算成像，一切皆有可能”为主题，旨在促进计算成像技术发展，为相关领域人员提供交流新思想、切磋新技术的舞台，促进相关学科的科技创新和成果转化，提高计算成像研究方向的教学科研水平及计算成像研究在光电成像技术领域的影响力。

      会上，吕盼稂研究员应邀作《高帧频图像在计算成像中的应用》ZT报告，分享了高速图像测量技术中的ZX研究成果，并围绕高帧频图像如何提升计算成像质量和效率展开，介绍高速摄像仪在计算成像技术中的实际应用案例。

      不少专家学者与吕盼稂研究员共同探讨高速摄像仪和高速图像测量应用解决方案在计算成像中的成熟应用案例，并表示国产高速摄像仪在计算成像领域中作用越来越重要，希望今后能有更多交流合作的机会。

       本次大会千眼狼展区向参会人员展示了高速摄像仪及应变场测量应用解决方案、目标轨迹测量应用解决方案、流场测量应用解决方案等，吸引不少参会专家学者驻足关注。参观人员现场咨询高速摄像仪相关功能，并与工程师探讨产品在人工智能与计算成像领域中的应用。

应变场测量应用解决方案

      通过追踪物体表面的散斑图像(全场各特征点)，实现变形过程中物体表面的三维坐标、 位移及应变的动态测量,支持计算坐标位移、分析距离夹角、弹性模具、泊松比等专业数据,支持与载荷仪通信,直观显示载荷与应变形态的对应关系。

目标轨迹测量应用解决方案

方案通过高速摄像机捕捉高速目标运动过程，跟踪运动物体特征点，利用千眼狼图像测量分析软件进行测量特定点的位移、速度、加速度等数据。

流场测量应用解决方案

方案由两台高清高速摄像机、激光器、同步触发器、分析软件组成。在片激光光源作用下，选用适当的示踪粒子均匀布撒在流体中，随湍流、涡流运动，通过高速相机捕捉跟踪示踪粒子的运动轨迹，来呈现湍流、涡流的运行姿态。

       富煌君达千眼狼秉承自主创新研发的精神，多年来一直深耕高速图像测量技术，通过在科研院所、、工业等领域中的实战经验，产品与技术研发更加成熟。此次参会也希望得到更多领域专家们的认可，我们将不断努力，继续创新研发，为我国计算成像技术不断发展贡献力量。

邀请函

尊敬的学者/专家/领导： 

自2016年起，全国热分析和联用技术交流会已在合肥、西宁、贵阳成功举办三届，现初步定于2023年7月31-8月3日在宁夏银川印象宁丰国际酒店举办第四届热分析和联用技术交流会。 

本次会议由中国科学技术大学理化科学实验中心&珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司联合举办，届时，您将有机会与同领域或相关学科的学者们进行学术交流，来自珀金埃尔默的技术专家们也将为您带来最 新的应用成果，创新技术和仪器的维护保养信息，期待与您相约美丽的银川。

 同时，我们也诚挚的向广大热分析和联用技术用户进行论文征稿。希望您能够将日常工作中的收获、总结和对前沿问题的看法与我们分享。所有投稿论文将由联合会务组专家团队进行认真审阅，所有录用稿件，珀金埃尔默将提供稿费进行奖励, 并收录于论文集中。 

日程安排

论文细则

征文内容

（可涵盖但不局限于以下领域，已发表过的文章全文或摘要均可）： 

1.热分析及联用技术领域的方法创新：

● 环境污染物⸺微塑料等颗粒物分析 

● 减碳节能⸺新能源相关应用

● 小型、智能联用⸺统计算法等 

● 新型联用技术⸺TGA-ICP-OES/ICP-MS技术等 

● 联用数据库建立⸺材料基因组

● 材料结构剖析⸺传统的应用汇总 

● 药物相关研究 

2.热分析及联用技术国内外最 新发展趋势及动向。 

3.热分析及联用技术在检测和分析方面的案例讨论及分析。

4.论文中、英文不限。 

5.对于论文内容的原创性、学术真实性等问题，由作者自行承担相关责任。

论文一经录用，珀金埃尔默公司将拥有文章使用权。 

论文格式要求（Word 格式下）： 

1.页面边距：上下为2.54cm 、左右为3.17cm；行间距固定值20磅（表格行间距：单倍）。 

2.中文标题：小三加粗宋体；作者：题目下方空一行，小四华文中宋；单位：五号；宋体；以上居中。 

3.摘要和关键字：单位下方空一行，小五加粗宋体；摘要和关键字内容：小五号，宋体。 

4.正文标题：摘要和关键字内容下方空一行，五号加粗宋体；正文内容：首行缩进 2 字符，五号；宋体。 

5.所有表格名称及抬头：小五号，宋体。 

6.为确保论文集的美观，请务必严格遵照以上格式要求进行提交。 

征文收集

魏攀：186 1677 7439

Sara.wei@perkinelmer.com

会议投稿咨询

华诚：137 7746 8792

丁延伟：130 3305 8986

注意事项

请按照邀请函第二页的论文细则要求，在截止日期前，将您的论文电子版（Word格式）发送至

Sara.wei@perkinelmer.com

投稿截止日期：

2023年7月10日

会议时间：

2023年7月31日 13:00-18:00报到

2023年8月1-2日 会议

2023年8月3日 返程

会议地址：

宁夏银川印象宁丰国际酒店

（银川兴庆区解放东街6号）

住宿联系人：

吴经理 13209609643

请扫描二维码，注册报名！

       第四届中美纳米医学与纳米生物技术年会由中美纳米药物与纳米生物技术学会（CASNN）主办，旨在共同探讨纳米药物/纳米医学的发展愿景、面临的挑战及解决策略，推动纳米医学与纳米生物技术相关产业的蓬勃发展, 促进中美纳米医学与纳米生物技术领域项目和技术的交流、合作。会议已邀请来自ZG、美国、加拿大、日本、韩国、新加坡等国家和地区的院士和专家及国内知名药企人员，预计参会人数约500人。

       会议将于2019年8月19号报到，20-22日在杭州开元名都大酒店举行。珀金埃尔默作为lingxian的解决方案供应商，将亮相此次会议，欢迎莅临珀金埃尔默展台！

珀金埃尔默可提供纳米检测整体解决方案:

诚挚邀请参会代表莅临珀金埃尔默展位参观交流,珀金埃尔默与您不见不散!

扫描二维码参与抽奖，会前抽奖到珀金埃尔默展位领取，或留地址邮寄均可。

关于珀金埃尔默：

珀金埃尔默致力于为创建更健康的世界而持续创新。我们为诊断、生命科学、食品及应用市场推出独特的解决方案，助力科学家、研究人员和临床医生解决Z棘手的科学和YL难题。凭借深厚的市场了解和技术专长，我们助力客户更早地获得更准确的洞见。在，我们拥有12500名专业技术人员，服务于150多个国家，时刻专注于帮助客户打造更健康的家庭，改善人类生活质量。2018年，珀金埃尔默年营收达到约28亿美元，为标准普尔500指数中的一员，纽交所上市代号1-877-PKI-NYSE。

了解更多有关珀金埃尔默的信息，请访问www.perkinelmer.com.cn。

恩梯梯尖端技朮株式会社NTT Advanced TechnologyCorporation (下面简称：NTT-AT）与武汉东隆科技有限公司（以下简称“东隆科技”）于2022年4月正式签订代理合作协议。东隆科技主要负责NTT-AT公司在中国区域XUV mirror和X-ray chart产品的销售。

NTT-AT公司于1976年成立于日本东京。从事X线，极端紫外线等光学配件的销售多年。众多研究者共同在研究开发中积累的设计、制造技术在辐射光科学，阿秒科学，高强度物理学等众多领域享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有高分辨率，高聚光效率，适合被各种辐射光设施使用。另外，分辨率评价图被作为业界的标准，不只是学术研究，在X线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片，XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助，对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT不仅仅提供元件，还提供光学系统。NTT-AT在XUV、EUV、X线领域给予了客户在研发上最大的支持和帮助，助力于客户解决更多的科研需求。

东隆科技创立于1997年，坐落于著名的武汉·中国光谷的核心区。东隆科技一贯秉持“服务创造未来”的宗旨，为客户提供迅捷的高品质服务和技术支持，倍受广大客户信赖。同时，我们与各大厂商还建立了全面深入的合作关系，并联合成立技术服务中心。经过近二十多年的发展，我们已拥有一批专业的技术人才，能够有效地针对客户需求提供专业的产品服务和技术解决方案，争取以最经济、最有效的方式满足客户的应用需求。

        11月28日， 科尔康受邀参加由重庆市分析测试学会举办的水分析检测技术交流会。近150家水行业公司业主出席了会议。

       科尔康产品经理在会上介绍了科尔康基于先进空气质量及污染源监测技术而研发的恶臭自动采样及监测系统——AMG1000。

       AMG1000主要用途为：监测环境空气中恶臭气味和气体的挥发，包括化工园区，垃圾中转站，垃圾焚烧厂，垃圾填埋场，污水处理厂等环境，一些被恶臭气体困扰的居民区，商务办公区；配合政府解决处理居民关于恶臭气体的投诉问题。可远程手机操控实时留样，以备后续分析、时间溯源。

（来源：英国科尔康气体检测仪表有限公司）

       11月28日， 科尔康受邀参加由重庆市分析测试学会举办的水分析检测技术交流会。

       近150家水行业公司业主出席了会议。

       科尔康产品经理在会上介绍了科尔康基于先进空气质量及污染源监测技术而研发的恶臭自动采样及监测系统——AMG1000。

       AMG1000主要用途为：监测环境空气中恶臭气味和气体的挥发，包括化工园区，垃圾中转站，垃圾焚烧厂，垃圾填埋场，污水处理厂等环境，一些被恶臭气体困扰的居民区，商务办公区；配合政府解决处理居民关于恶臭气体的投诉问题。可远程手机操控实时留样，以备后续分析、时间溯源。

（来源：英国科尔康气体检测仪表有限公司）

是否还在为高精度微光学元件制作而发愁？

是否还在苦苦寻找高折射率打印材料？

德国 Nanoscribe 公司推出针对微光学元件（如微透镜、棱镜或复杂自由曲面光学器件等）具有特殊性能的新型材料 – IP-n162光刻胶。全新的光敏树脂材料具有高折射率，高色散和低阿贝数的特性，这些特性对于3D微纳加工创新微光学元件设计尤为重要，尤其是在没有旋转对称和复合三维光学系统的情况下。

“使用IP-n162这样的高折射率光敏树脂可以实现强大的设计自由度。设计人员可以利用更少的时间和成本制造出更强大、更薄、弧度更小且更紧凑的微透镜。”Simon Thiele，由BMBF资助的同名衍生公司项目PRINTOPTICS和CTO项目参与人说道。这个项目由德国Nanoscribe公司携手斯图加特大学和Karl Storz医学技术公司，共同合作研发在用于内窥镜应用中的光纤上打印微型光学器件。

图为Nanoscribe公司高精度双光子微纳3D打印设备：Photonic Professional GT2 & Quantum X

以及新型材料IP-n162

全新IP-n162光刻胶是为基于双光子聚合技术的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可实现具有高精度形状精度的创新微光学设计，并将高精度微透镜和自由曲面3D微光学提升到一个新的高度。

     主要特点：

• 高折射率光刻胶，在589nm波长下n = 1.62

• 低吸收率适合红外微光学，也是光通讯、量子技术和光子封装等需要低吸收损耗应用的ZJ选择

• 高色散低阿贝数

由于其光学特性，高折射率聚合物可促进许多运用突破性技术的各种应用，例如光电应用中，他们可以增加显示设备、相机或投影仪镜头的视觉特性。此外，这些材料在3D微纳加工技术应用下可制作更高阶更复杂更小尺寸的3D微光学元件。例如适用于AR/VR应用的微型成像系统和3D感测。

新型IP-n162阿贝数低至25，使其成为了Nanoscribe高色散光刻胶。用该款光敏树脂所打印的样品结构，其光学性能能接近常规用注塑成型技术制作的光学聚合物，例如聚碳酸酯（polycarbonate）或聚酯（polyesters）。IP-n162材料尤其适合用于制作消色散光学系统，即通过使用由较低折射率和较高折射率材料（例如IP-n162）打印并组和而成的复合光学元件。

图示结构由Simon Thiele设计，TTI GmbH TGU Printoptics, 由Nanoscribe打印制作

“在IP-n162光刻胶的使用过程中，我所实现的最满意的设计是一个复杂的光学系统。该系统由两个具有完全自由曲面表面的透镜组成，以实现无失真的图像。集成衍射透镜的特点是在透镜顶部包含精细的阶梯结构，用来矫正色彩误差，而IP-n162打印材料的高折射率有助于减小这些阶梯结构并减少杂散光。”Thiele根据使用新型光敏树脂的经验说道。

更多有关双光子微纳3D打印产品和技术应用咨询

欢迎联系NanoscribeZG分公司 - 纳糯三维科技（上海）有限公司

www.nanoscribe.com/cn

德国Nanoscribe 超高精度双光子微纳3D打印系统：

     Photonic Professional GT2   双光子微纳3D打印设备

     Quantum X                             双光子灰度光刻微纳打印设备

6月9日，“PHI CHINA 2023年表面分析应用与技术交流会暨北京分会”于北京理工大学成功召开。本次会议由北京理工大学材料学院先进材料实验中心、北京理化分析测试学会表面分析技术委员会、PHI CHINA 高德英特（北京）科技有限公司联合主办，北京理工大学分析测试中心、北京理工大学物理学院共同协办。

会议邀请了北京理工大学、清华大学、中科院以及 ULVAC-PHI 的专家、教授分享学术报告，旨在推动表面分析应用技术的发展，助推表面分析技术与其它学科的融合，促进表面分析新方法、新技术的推广和应用。

与会人员合影

嘉宾致开幕词

北京理工大学材料学院 刘艳副院长（左上）

北京理工大学资产与实验室管理处 郭宏伟副处长（右上）

北京理工大学材料学院 陈鹏万院长（左下）

北京理工大学分析测试中心 彭绍春主任（右下）

会议详情

大会专家们对表面分析技术的深刻理解与详尽分析让参会者受益良多，会议在热烈的掌声中完 美落幕。非常感谢前来参会的老师同学们，未来我们会陆续举办更多的交流、研讨会议，期待再次的会面！

END

*在此感谢北京理工大学宋廷鲁老师对本次会议的支持/《X射线光电子能谱数据分析》 

（购书请点击下方链接）

https://mp.weixin.qq.com/s/Dk8iH8dGDSsl8lykNz4CBw

为积极推动表面分析应用技术的发展，促进表面分析技术与其它学科的融合，更好地结合表面分析技术解决问题，同时加强同行之间交流与合作，展示相关的新成就、新进展，将于2023年6月9日重新启动已延期两年的“PHI CHIIA 2023年表面分析应用与技术交流会暨北京分会”。

本次会议将由北京理工大学材料学院先进材料实验中心、北京理化分析测试学会表面分析技术委员会及PHI CHIIA高德英特（北京）科技有限公司联合举办。会议邀请了北京理工大学、清华大学、中科院以及ULVAC一PHI的专家、教授分享学术报告，为大家带来XPS、TOF一SIMS、AES等表征手段与材料、物理、化学、机械、前沿交叉等学科技术应用的交流，探讨学术技术理论、促进各学科交叉融合，发展壮大表面分析科学研究队伍，提升表面分析科学应用能力。在此诚邀国内外相关高校和科研院所的科研人员、科学领域的专家学者、技术人员前来参会，积极交流。

会议信息

主办单位

北京理工大学材料学院先进材料实验中心

北京理化分析测试学会表面分析技术委员会

PHI CHINA高德英特(北京)科技有限公司

协办单位：

 北京理工大学分析测试中心

 北京理工大学物理学院

会议地址

 北京理工大学中关村校区（北京市海淀区中关村南大街5号） 研究生教学楼101报告厅

会议时间

2023年6月9日 8:30-18:00

会议主题

XPS、AES、TOF-SIMS等表面分析测试技术   表面分析技术及其在新材料中的应用   新能源、新材料表征技术   先进结构技术、前沿交叉科学中的表面分析技术应用   表面分析科学在双一 流建设中的作用等

会议日程

相关费用

不收取任何会务费注册费。

差旅及食宿费用自理（校外人员提供午间工作餐）。

如需会务组协助定酒店，请在报名表内填写。

协议酒店：北京中关村理工大学漫心酒店（魏公村路8号院6号楼）

价格：大床房 600元/间 ，标间：800元/间。

参会报名

请扫码进行报名登记

 *校外人员因需提前办理入校申请，请校外人员务必重新扫码登记身份证号。

 报名成功后统一邮件/短信通知

会务组联系方式

潘剑南 18612300780 

nice.pan@CoreTechInt.com

吴  婷 13167361283 

noreen.wu@CoreTechInt.com

宋老师  13811665848

高老师  13488699859

韩老师  15901039196

为积极推动表面分析应用技术的发展，促进表面分析技术与其它学科的融合，更好地结合表面分析技术解决问题，同时加强同行之间交流与合作，展示相关的新成就、新进展，PHI CHINA将在2023年3月30日在西安举办“2023年表面分析应用与技术交流会暨西安分会”。

PHI CHINA热忱欢迎广大专家学者和科研人员积极参与会议，分享、交流、学习、创新。

主办单位

高德英特（北京）科技有限公司、西北大学

会议时间地址

2023年3月30日

西安-西北大学

参会报名

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会务组联系方式

James.song@coretechint.com

2、吴婷 13167361283

noreen.wu@coretechint.com

费用

本次会议不收取会务费。参会人员食宿及交通费自理。

会议日程安排

主讲嘉宾介绍