离子束刻蚀(IBE)介绍
离子束刻蚀系统是一种用于物理学、工程与技术科学基础学科、电子与通信技术领域的工艺试验仪器，于2005年10月1日启用。
什么是离子?什么是离子束?
带电荷的原子或分子，即为离子。带正电荷的离子被叫做正离子，而带负电荷的离子被叫做负离子。
离子束:通过几乎相同的速度沿着近似一致的方向运动的一群离子。
离子束刻蚀(IBE)介绍
通过具有一定能量的离子对材料表面进行轰击，使得材料原子发生溅射，从而使得刻蚀的目的达到。往离子源放电室充入Ar、Kr或Xe之类惰性气体使其电离使得等离子体形成，之后通过栅极呈束状引出离子并加速，具备一定能量的离子束往工作室中进入，往固体表面射，对固体表面原子进行撞击，使材料原子发生溅射,使得刻蚀目的达到，属于纯物理过程。
凹面闪耀全息光栅在各种分析仪器、光通信、生物、yi疗器械等领域得到十分广泛地运用。
离子束刻蚀法被采用来进行闪耀加工,，所以能够使得具有各种闪耀角(闪耀波长)的闪耀全息光容易地制造出来。
离子束刻蚀（IBE）适合的材料体系？
能够用来对各种金属（Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等）及其合金，以及非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、聚合物、陶瓷、红外和超导等材料进行刻蚀加工。
到目前为止，在非硅材料方面，离子束刻蚀有着相当明显的优势，在声表面波、薄膜压力传感器、红外传感器等方面的用途也非常的广泛。
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- 离子束刻蚀系统优点
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