仪器网(yiqi.com)欢迎您!

| 注册 登录
网站首页-资讯-专题- 微头条-话题-产品- 品牌库-搜索-供应商- 展会-招标-采购- 社区-知识-技术-资料库-方案-直播- 视频

资讯中心

当前位置:仪器网> 资讯中心>Nanoscribe ZL技术双光子微纳3D打印系统 - Quantum X 荣获创新奖

Nanoscribe ZL技术双光子微纳3D打印系统 - Quantum X 荣获创新奖

来源:纳糯三维科技(上海)有限公司      分类:商机 2019-07-19 15:26:24 1416阅读次数

近日,德国Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博会展 LASER World of Photonics上发布了全新双光子无掩模光刻3D打印系统 – Quantum X,并荣获创新奖。该奖项由交易会和英国出版社Europa Science赞助,以此来表彰Nanoscribe在设计用于折射和衍射微光学工业制造中的突出成绩和杰出表现。


“我们很高兴今天能够获得创新奖。”在颁奖典礼结束后,Nanoscribe首席执行官Martin Hermatschweiler强调说。“在经历了密集紧张的技术开发阶段后,这奖项对我们团队和QuantumX的出色表现来说都是一个非常好的认可。”Martin Hermatschweiler说道。


Quantum X新型超高速无掩模光刻技术的核心是Nanoscribedu家ZL的双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的zhuo越性能与双光子聚合的极ng确性和灵活性wan美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高端复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺大大缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。



官方网站:https://www.nanoscribe.com

联系我们:cui@nanoscribe.com

联系电话:+86 21 2082 5547 / +86 21 2082 1321


参与评论

全部评论(0条)

获取验证码
我已经阅读并接受《仪器网服务协议》

推荐阅读

版权与免责声明

①本文由仪器网入驻的作者或注册的会员撰写并发布,观点仅代表作者本人,不代表仪器网立场。若内容侵犯到您的合法权益,请及时告诉,我们立即通知作者,并马上删除。

②凡本网注明"来源:仪器网"的所有作品,版权均属于仪器网,转载时须经本网同意,并请注明仪器网(www.yiqi.com)。

③本网转载并注明来源的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品来源,并自负版权等法律责任。

④若本站内容侵犯到您的合法权益,请及时告诉,我们马上修改或删除。邮箱:hezou_yiqi

关于作者

作者简介:[详细]
最近更新:2024-09-05 09:08:22
关注 私信
更多

最新话题

最新资讯

作者榜