等离子处理系统及原理的基础知识_kimberlite
等离子处理系统采用的是是干法清洗,主要清洗很微小的氧化物和污染物。等离子清洗机清洗原理与其他清洗机的原理不同,当舱体里接近真空状态时,开启射频电源,这时气体分子电离,产生等离子体,并且伴随辉光放电现象,等离子体在电场下加速,从而在电场作用下高速运动,对物体表面发生物理碰撞,等离子的能量足以去除各种污染物,同时氧离子可以将有机污染物氧化为二氧化碳和水蒸气排出舱体外。
真空等离子清洗机,等离子处理系统
等离子清洗不需要其他的原料,只要空气、氧气、氮气等气体就能够满足要求,使用方便而且没有污染,同时比其他清洗机器更具有的优势。等离子处理机不但可以进行表面清洗,更重要的是可以提高表面活性,等离子体与物体表面进行化学反应能够产生活性化学集团,应用范围很广,比如提高材料表面粘接能力,提高焊接能力,邦定性,亲水性等等很多方面。
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