半导体行业应用速递（上）｜近红外光谱法快速分析蚀刻液中混酸含量
与日俱增的电子化水平使我们对半导体的需求日益增加，半导体的工艺流程从覆铜板到 PCB、从光刻到蚀刻，整个生产链都要求高质量、高标准的交付，因此必须通过优化生产过程来提高生产效率。
近红外光谱作为一种行之有效的快速解决方案，一分钟可同时分析多个指标，省时省力还省钱，是传统分析方法的理想替代方法，非常适合半导体行业的多种应用场景。
应
用
实
例
近红外光谱法快速分析蚀刻液中混酸含量
蚀刻液的配方组成对于蚀刻效果来说十分重要。酸性蚀刻使用的蚀刻液通常由多种高纯酸混合而成（如，硫酸、磷酸、硝酸、氢氟酸、醋酸等），为了达到所需的蚀刻效果，必须严格控制蚀刻液中各种酸的含量。
实验样品
某铜蚀刻液——由 H3PO4、H2SO4、HNO3 和HF 四种高纯酸混合而成。
实验仪器
DS2500 近红外光谱液体分析仪
仪器
◆ 智能配件
仪器可根据操作程序配置检查是否插入了正确的适配器。
◆ 自动开始功能 & 识别功能并行
仪器可选择在盖子关闭后自动开始测量。
◆ 可以快速加热到80℃，并快速冷却
这一点对于测量不同温度下的样品十分有利。
◆ 支持流通池
仪器支持样品处理器自动操作的流通池，可实现无人值守情况下的自动分析。
近红外分析模型
使用一批样品分别建立 H3PO4、H2SO4、HNO3 和 HF 含量的定量分析模型。
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盲样验证
使用上述近红外分析模型测量8个盲样, 每个盲样测量两遍，所得结果与参考值十分接近，且重复性很好。
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实验结论
在实际工业生产过程，上述四项指标的常规分析操作十分繁琐，无法满足快速检测的要求。
而近红外光谱法分析该四项指标仅需一分钟，且无需使用任何化学试剂，也无需对样品进行前处理，可以节省大量的人工和成本，是一种绿色环保的高效分析方法。
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