PHI CHINA 表面分析技术网络讲堂之俄歇电子能谱ZT
PHI CHINA自2月11日开始通过网络直播的方式,展开为期四周的光电子能谱ZT讲座,获得了广泛关注和一致好评。为了满足大家热切的学习需求,PHI CHINA将推出“俄歇电子能谱ZT”讲座,为期三天:3月11日至3月13日,每天下午三点准时开讲。
01 3月11日
鲁德凤
AES技术基本原理、主要功能和应用
主要内容:
①、AES 的基本原理:俄歇电子的产生、主要技术能力;空间分辨、检出限以及定性定量等;俄歇系统的基本构成和能量分析器的特点;
②、AES 的主要功能:采谱、线扫描、成像、深度剖析等;冷脆断断面分析、原位 FIB+EDS+BSE+EBSD 全方位成分表征;
③、AES 的主要应用:纳米材料、金属、半导体、催化材料、能源电池、太阳能光伏、膜层结构剖析等。
02 3月12日
辛国强
AES硬件简介、仪器功能及特点
主要内容:
①、系统结构;
②、真空系统;
③、能量分析器基本原理;
④、电子枪及电子探测器;
⑤、离子枪基本原理;
⑥、俄歇仪器功能及特点。
03 3月13日
叶上远
AES样品制备、数据采集及处理
主要内容:
①、对于不同的分析目的,如何做相对应的样品制备;
②、简单的俄歇图谱解释,原图和微分谱与定性/定量分析;
③、如何使用软件和俄歇手册处理重叠峰;
④、俄歇峰背景扣除;
⑤、线扫和面扫数据分析;
⑥、如何使用 LLS 进行深度分析数据处理;
⑦、从导体到半导体俄歇分析,以及分析中电荷中和的方法。
此次讲堂继续延用网络直播的形式,现场答疑。
PHI CHINA在表面分析领域多年深耕,专注表面分析的发展与科研,希望本系列讲堂能帮您丰富知识,提升技能,与大家携手进一步推动表面分析技术的蓬勃发展。若您对课程安排或技术方面有任何疑问,欢迎在微信公众号给我们留言。
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