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扫描电镜利用产生汇聚的电子束，轰击样品，产生各种信号，例如二次电子，背散射电子，吸收电子，X射线等，不同的信号携带有不同的衬度。Z常见的衬度有形貌衬度和成分衬度。还有一种在晶体材料中常见的衬度就是电子通道衬度，即ECC（Electron Channeling Contrast）衬度，它能够反映不同取向的晶粒以及一些缺陷。

对于晶体材料，二次电子和背散射电子的产额与初始电子束与晶面的相对取向有关。晶体取向的不同会造成初始电子被试样原子散射的机率产生差异，进而影响二次电子和背散射电子的产额。例如图1中所示的两种不同取向晶粒，对于A晶粒，电子进入该晶粒时，与原子核发生碰撞的几率减小，大概率会直接通过往样品更深处运动，碰撞减小，往样品外散射的信号就会减小，图像中表现的衬度就会低，比较暗；相反，对于B晶粒，取向发生改变，电子进入该晶粒中，碰撞几率提高，产生的信号量就会增加，图像中表现的衬度就会较高，比较亮。因此，晶粒取向不同，对产生的信号量就会造成影响，通过将这些信号收集起来进行处理就能够对不同的取向进行表征。

在了解通道衬度是如何形成的之后，要如何在样品上观察到这种衬度呢？

首先，需要是晶体材料，表面具有良好的晶体结构，因此，对于样品制备的要求相对于常规扫描样品要更加严格。需要对样品进行抛光处理，获得平整的表面。同时在机械抛光完成之后表面依然存在应力层，为了去掉应力层，可以采用振动抛光，硅胶抛光，电解抛光，或者氩离子抛光，对于部分材料，也可以直接用相应的腐蚀液稍微腐蚀一下，也能很好的去除应力层。每种制样方法都有各自的优缺点，振动抛光和采用硅胶抛光的方法，制备的表面很平整，但是往往需要较长的时间才能很好的去除应力层；电解抛光需要样品导电，抛光参数（包括抛光的时间电压电流，电解液的选择等）需要摸索，抛光的样品也不适合很大，含有夹杂物或者多相的材料也不适合用电解抛光；氩离子抛光主要有两种，见图2所示，一种是平面抛光，一种是截面抛光，平面抛光能够在样品表面靠近中间的位置进行，但是往往会带来非常明显的表面浮凸，引入形貌衬度，截面抛光虽然能够获得非常平整的面，但是只能在边缘处进行，区域比较小。因此，根据样品选择合适的制样方法，ZZ获得一个平整的无应力层的表面。

样品制备完成后，在电镜中观察的时候...

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