新材料系列之——高纯钽高纯铌中的杂质元素分析
根据新思界产业研究中心发布的《2021-2025年高纯钽行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，高纯钽是大规模集成电路生产所不可或缺的关键材料。我国集成电路产业发展迅速，现阶段是quan球Z大的集成电路市场，且增长速度高于quan球平均水平，为高纯钽行业带来广阔市场空间。2020年，我国集成电路市场规模超过1400亿美元。集成电路是电子信息产业的重要组成部分，在信息化时代背景下，高纯钽需求规模将持续增长。
高纯钽 靶材 钽靶
高纯铌 靶材 铌靶
01
He作为RQ cell碰撞气体测试
✦
选择5.0mL/min He作为RQ cell碰撞气体进行测试，发现Ag受到干扰(14N93Nb等)影响，在5.0mL/min He流量下干扰能得到改善。
02
测试结果及回收率
✦
为考察方法的准确性，对样品进行加标回收率测试，在样品中加入1μg/mL杂质元素标准溶液，测试结果及回收率如表所示。
表. 样品测试结果及回收率
03
Ga和Rh内标稳定性
✦
仪器接口对该类样品的耐基体效应，分别以高纯钽和高纯铌试剂为基准，连续泵入加标溶液，并每隔10min对加标液进行监控，Ga和Rh内标稳定性如下图所示：
结论
结果表明回收率和稳定性较好，赛默飞iCAP RQ仪器能满足生产工艺中高纯钽、高纯铌的产品质量控制需求。
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