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氧化铪薄膜膜厚标准物质
- 品牌:伟业计量
- 型号/货号: 1片 ( 真空包装,阴凉、干燥处存放 )/GBW13980
- 产地:北京 朝阳区
- 供应商报价:面议
- 北京北方伟业计量技术研究院 更新时间:2022-04-02 15:02:30
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销售范围售全国
入驻年限第5年
营业执照已审核
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详细介绍
基本信息 产品编号 GBW13980 中文名称 氧化铪薄膜膜厚标准物质
英文名称 Thin film thickness CRM of HfO2
规格 1片 ( 真空包装,阴凉、干燥处存放 ) 形态 固态 存储条件 真空包装,阴凉、干燥处存放。 用途 物理学与物理化学/光学特性 注意事项 样品开封使用应保证取样工具等洁净避免沾污。建议本标准物质开封后用于一次检定/校准活动,在确保使用后无变形、无污染时可多次使用,但其量值仅可作为期间核查。 量值信息 组分 标准值 不确定度 单位 表面层 (1.85) 厚度 (nm) HfO2层 4.73 0.04 厚度 (nm) Al2O3层 (9.41) 厚度 (nm) SiO2层 (0.59) 厚度 (nm) 产品详情
氧化铪薄膜膜厚标准物质
Thin film thickness CRM of HfO2
氧化铪薄膜膜厚标准物质用于校准表面分析设备如俄歇电子光谱仪、X 射线光电能谱仪及二次离子质谱仪的溅射速率,薄膜厚度测量设备如椭偏仪,确保这些设备在 1nm~10nm 范围测量时量值准确性、可比性,满足纳米材料及器件设计、制造等单位的需求。
一、样品制备
采用ALD 生长方法,在 Si 基底上生长膜厚名义量值为 10 nm 的 Al2O3 作为界面缓冲层,在界面缓冲层上面沉积了名义值厚度为 5 nm 的 HfO2 薄膜,切割为 20 mm ´ 20 mm 的正方形,校准合格后采用铝箔包装袋真空包装。
二、溯源性及定值方法
采用纳米薄膜厚度校准装置([2014]国量标计证第 273 号)对标准物质定值。该校准装置基于布拉格方程,通过波长、角度测量的计量溯源,建立标准物质特性量值的计量溯源性,其中:角度测量量值通过激光干涉仪和自准直仪溯源至国家角度基准;X 射线波长测量量值通过单晶硅晶格参数溯源至长度的 SI 单位-米(m)。
三、特性量值及不确定度
名 称
编 号
厚度 (nm)
特性
表面层
HfO2 层
Al2O3 层
SiO2 层
氧化铪薄膜膜厚标准物质
GBW13980
特性值
(1.85)
4.73
(9.41)
(0.59)
扩展不确定度 (k=2)
/
0.04
/
/
注:HfO2 层厚度为标准值,其余括号内的特性值为指示值(信息值)。
标准值不确定度包括测量过程、测量设备、均匀性及稳定性等不确定度分量。
四、均匀性及稳定性评估
参照 JJF1343 国家计量技术规范(等效 ISO 指南 35),采用掠入射 X 射线反射技术,通过方差分析法进行均匀性评估,评估结果表明,样品均匀性良好;采用掠入射 X 射线反射技术,对样品进行稳定性评估,评估结果表明,样品稳定性良好。
本标准物质自定值日期起有效期 12 个月,研制单位将继续跟踪监测该标准物质的稳定性,有效期内如发现量值变化,将及时通知用户。
五、包装、贮存及使用
包装:本标准物质内包装为半导体封装盒,外包装为铝箔真空袋,每包装为一片,20 mm ´ 20 mm;贮存:真空包装,阴凉、干燥处存放;
使用注意事项:样品开封使用应保证取样工具等洁净避免沾污。建议本标准物质开封后用于一次检定/校准活动,在确保使用后无变形、无污染时可多次使用,但其量值仅可作为期间核查。
声明
1.本标准物质仅供实验室研究与分析测试工作使用。因用户使用或储存不当所引起的投诉,不予承担责任。
2.收到后请立即核对品种、数量和包装,相关赔偿只限于标准物质本身,不涉及其他任何损失。
3.仅对加盖“ZG计量科学研究院标准物质专用章”的完整证书负责。请妥善保管此证书。
4.如需获得更多与应用有关的信息,请与技术咨询部门联系。