蔡司扫描电镜Crossbeam 340

蔡司高性能FIB-SEM 双束扫描电子显微镜系统—Crossbeam 340 系列在稳定性，易操作性和多功能性等方面都大有提升。这是一台兼容更多样品种类的高通量样品制备和纳米加工平台。针对 TEM 样品制备，微纳结构加工和各种样品分析等不同应用，可根据您的需求量身定制。

　　双束扫描电镜镜筒

　　作为一台专为样品制备和纳米加工等广泛应用而设计的双束 FIB-SEM，蔡司扫描电镜Crossbeam 340 配备了新一代 Capella+ 离子镜筒， 具有离子束流大，离子源稳定时间长，寿命长，低束流具有小束斑尺寸等优势，在保证优异分辨率的前提下，极大地节省加工时间，提高效率，实现从大范围切割到纳米精度加工。

　　电子镜筒方面，Crossbeam 340 具有蔡司特有的 Gemini 技术，即使是在低电压和高束流下仍可实现高分辨成像。其提供了高真空和可变压力等真空模式，可兼容各种放气或放电样品，并在优异的分析条件下进行原位实验。

　　TEM样品制备

　　蔡司专门针对 TEM 样品制备应用，进行了全面、灵活的设计和配置，使您能够简单，快速地完成各种样品制备工作。全新的自动样品制备功能(Auto Sample Prep)，只需简单三步：点击按钮、选择区域、执行完成，便可实现 TEM 样品的自动化，批量化制备，使 TEM 制样更快捷方便。此外，样品截面加工以及特殊图形加工都可利用此功能自动批量完成，从而大大地提高样品制备与加工效率。

　　另一方面，针对越来越多的超薄 TEM 样品制备的应用需求，蔡司扫描电镜Crossbeam 340 配置了蔡司特有的技术——X2 样品制备方法。利用特殊的样品台，可实现超薄TEM 样品制备，从而获得高质量无卷曲的超薄样品。尤其对于两相或多相硬度差别较大的样品，X2 技术有其独特的优势。