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EVG720紫外纳米压印
- 品牌:奥地利EVG
- 型号: EVG720
- 产地:奥地利
- 供应商报价: 面议
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
更新时间:2024-08-13 14:47:08
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企业性质生产商
入驻年限第6年
营业执照已审核
- 同类产品奥地利EVG纳米压印机、光刻机、键合机(8件)
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- 详细介绍
EVG720紫外纳米压印机
一、设备原理:
EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印,可以保证大面积纳米压印的均匀压力,从而保证获得很高的良率。
二、应用范围
纳米压印技术主要应用于如下方面:
LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵列;微流体学;芯片实验室;抗反射层; 纳米压印光栅; 莲花效应;光子带隙;光学及通讯:光晶体,激光器件;生物技术解决方案:医药分析,血液分析,细胞生长。
三、主要特点及技术参数:
1、主要特点:
。 最 大产量高达40wafers每小时;
。 紫外光曝光;
。配备专用的紫外纳米压印工具;
。 正面对准或者正反双面对准;
。 适用衬底:Si,玻璃,化合物半导体;
。 硬紫外纳米压印,软紫外纳米压印、微接触压印。
2、技术参数
晶圆尺寸:最 大150mm
大面积压印:最 大150mm
产能:最 大可到40wafers/小时
印章制备:支持工作模具制备,支持自动楔形脱模
曝光:曝光光源:高功率窄带曝光;波长:300-500nm, 光强:~ 400 mW/cm2,光强均匀性:20%(6寸)
对准模块:机械对位精度±200um,光学对位精度±3um
压印微结构尺寸范围:40nm-2um;
压印结构分辨率:≤40纳米
压印残留层厚度:≤20纳米
滚压印速度:2mm/s-16mm/s, 可以调节
图形保型度:≥90%
支持倾斜光栅压印,倾斜度45-90°
上料系统:3料盒台,现场可升级
u SECS/GEM II: 可选。
公司简介:
EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全 球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。
目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。
EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司,可为客户提供完整的纳米压印方案,包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专 利的极其优异的对准技术和世 界 领 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。
- 产品优势
- EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。