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FR-pRoThetametrisis膜厚测量仪
- 品牌:希腊ThetaMetrisis
- 型号: FR-pRoThetametrisis
- 产地:希腊
- 供应商报价: 面议
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岱美仪器技术服务(上海)有限公司
更新时间:2024-08-07 14:35:12
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企业性质生产商
入驻年限第1年
营业执照已审核
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- 详细介绍
Thetametrisis膜厚测量仪FR-pRo概述:
FR-pRo膜厚仪: 按需搭建的薄膜特性表征工具。
FR-pRo膜厚仪是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备,用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层。
FR-pRo膜厚仪是为客户量身定制的,并广泛应用于各种不同的应用。
比如:
吸收率/透射率/反射率测量,薄膜特性在温度和环境控制下甚至在液体环境下的表征等等…
Thetametrisis膜厚测量仪FR-pRo应用:
1、大学&研究实验室
2、半导体行业
3、高分子聚合物&阻抗表征
4、电介质特性表征
5、生物医学
6、硬涂层,阳极氧化,金属零件加工
7、光学镀膜
8、非金属薄膜等等…
FR-pRo膜厚仪可由用户按需选择装配模块,核 心部件包括光源,光谱仪(适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统)和控制单元,电子通讯模块。
此外,还有各种各种配件,比如:
1.用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架;
2.用于表征涂层特性的薄膜厚度工具;
3.用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒;
4.漫反射和全反射积分球。
通过不同模块组合,蕞终的配置可以满足任何终端用户的需求。
Specificatins 规格:
Model
UV/Vis
UV/NIR -EXT
UV/NIR-HR
D UV/NIR
VIS/NIR
D Vis/NIR
NIR
光谱范围 (nm)
200 – 850
200 –1020
200-1100
200 – 1700
370 –1020
370 – 1700
900 – 1700
像素
3648
3648
3648
3648 & 512
3648
3648 & 512
512
厚度范围
1nm – 80um
3nm – 80um
1nm – 120um
1nm – 250um
12nm – 100um
12nm – 250um
50nm – 250um
测量n*k 蕞小范围
50nm
50nm
50nm
50nm
100nm
100nm
500nm
准确度*,**
1nm or 0.2%
1nm or 0.2%
1nm or 0.2%
1nm or 0.2%
1nm or 0.2%
2nm or 0.2%
3nm or 0.4%
精度*,**
0.02nm
0.02nm
0.02nm
0.02nm
0.02nm
0.02nm
0.1nm
稳定性*,**
0.05nm
0.05nm
0.05nm
0.05nm
0.05nm
0.05nm
0.15nm
光源
氘灯 & 钨卤素灯(内置)
钨卤素灯(内置)
光斑 (直径)
350um (更小光斑可根据要求选配)
材料数据库
> 600 种不同材料
Accessries 配件:
电脑
19 英寸屏幕的笔记本电脑/触摸屏电脑
聚焦模块
光学聚焦模块安装在反射探头上,光斑尺寸<100um
薄膜/比色皿容器
在标准器皿中对薄膜或液体的透射率测量
接触式探头
用于涂层厚度测量和光学测量的配件,适用于弯曲表面和曲面样品
显微镜
用于高横向分辨率的反射率及厚度显微测量
Scanner (motorized)
带有圆晶卡盘的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自动化样品台可选,Polar(R-Θ)样品台支持反射率测量,Cartesian(X-Y)样品台支持反射率和透射率测量
积分球
用于表征涂层和表面的镜面反射和漫反射
手动 X-Y 样品台
测量面积为 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手动平台
加热模块
嵌入FR-tool 中,范围由室温~200oC,通过FR-Monitor 运行可编程温控器(0.1 oC 精度).
液体模块
聚四氟乙烯容器,用于通过石英光学窗口测量在液体中的样品。样品夹具,
用于将样品插入可处理 30mmx30mm 样品的液体中
流通池
液体中吸光率、微量荧光测量
工作原理:白光反射光谱(WLRS)是测量垂直于样品表面的某一波段的入射光,在经多层或单层薄膜反射后,经界面干涉产生的反射光谱可确定单层或多层薄膜(透明,半透明或全反射衬底)的厚度及 N*K 光学常数。
* 规格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度测量范围即代 表光谱范围,是基于在高反射衬底折射率为 1.5 的单层膜测量厚度。
- 产品优势
- Thetametrisis膜厚测量仪FR-pRo是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备,用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层。