仪器简介：
该设备利用频率为2450MHz的微波激励稀薄气体放电，从而产生等离子体。可用于等离子体气相沉积、等离子体气相刻蚀等实验，用于制备金刚石膜或其它多种功能薄膜，可催化引发常规化学很难实现的反应

技术参数：
本设备由微波系统、真空系统、水冷系统等几部分组成
电源：AC220V，50Hz
微波功率：0-1500W连续线性可调（或0-1000W连续线性可调）
微波频率：2450MHz±50MHz
石英管反应室：φ50mm
放置样品的基片台可以方便地在放电腔内上下升降调节
放电腔两端有双层水冷套作降温保护