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反应离子刻蚀机PlasmaStar 200
- 品牌:美国AXIC
- 型号: PlasmaStar 200/200RIE
- 产地:美洲 美国
- 供应商报价:¥1
- 武汉迈可诺科技有限公司 更新时间:2024-08-02 13:46:35
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入驻年限第7年
营业执照已审核
- 同类产品反应离子刻蚀机(2件)
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详细介绍
PlasmaSTAR®模块化腔室和电极组件是该系统的独特功能。 腔室材料是硬质阳极氧化铝, 有几种不同的电极设计,包括用于反应离子刻蚀(RIE)和平面处理的水冷平板电极,用于表面清洗或处理的交替多层托盘电极,用于最小化离子损伤的下游电极,和用于普通的圆柱形笼式电极。
型号: 反应离子刻蚀机PlasmaStar 200/200RIE
产地: 美国
品牌: Axic
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技术规格:
型号
PlasmaStar 100
PlasmaStar
100RIE
PlasmaStar 200
PlasmaStar 200RIE
舱体尺寸
直径254×深度356mm
直径200×深度280mm
宽305×高305×深406mm
宽305 ×高200×深406mm
舱体材质
标配为阳极氧化铝舱体
常用气体
空气,氧气,氢气,氩气,氮气,CF4,SF6等和其他混合气体
气路控制
标配2路MFC,PlasmaStar 100最多可选配4路,
标配2路MFC,PlasmaStar 200最多可选配5路;
控制系统
电阻触摸屏操作界面
程序控制
PC触屏控制,可编程序,无线存储数据
射频频率
13.56 MHz
射频功率
0~600W瓦之间距连续可调,自动匹配
0~1000W瓦之间距连续可调,自动匹配
电极设计
标准圆柱形笼式电极;
标准圆柱形笼式电极;
可选交替多层托盘电极;
可选RIE平面处理水冷平板电极
设备尺寸
宽800 x 深850 x 高525mm;
宽1033 x 深850 x 高635mm;
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