-
-
牛津等离子体刻蚀机 PlasmaPro 80 RIE
- 品牌:牛津仪器
- 型号: PlasmaPro 80 RIE
- 产地:英国
- 供应商报价: 面议
- 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 更新时间:2024-07-16 16:58:13
-
企业性质生产商
入驻年限第6年
营业执照已审核
- 同类产品英国Oxford 离子刻蚀/沉积/去胶机(17件)
联系方式:廖敬强0755-81776600
联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的!
-
为您推荐
- 详细介绍
牛津等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE
PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。
。直开式设计允许快速装卸晶圆
。出色的刻蚀控制和速率测定
。出色的晶圆温度均匀性
。晶圆最大可达200mm
。购置成本低
。符合半导体行业 S2 / S8标准应用:
· III-V族材料刻蚀工艺
· 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺
· 类金刚石(DLC)沉积
· 二氧化硅和石英刻蚀
· 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆
· 用于高亮度LED生产的硬掩模的刻蚀
系统特点
· 小型系统 —— 易于安置
· 优化的电极冷却系统 —— 衬底温度控制
· 高导通的径向(轴对称)抽气结构 —— 确保能提升工艺均匀性和速率
· 增加<500毫秒的数据记录功能 —— 可追溯腔室和工艺条件的历史记录
· 近距离耦合涡轮泵 —— 抽速高迅速达到所要求的低真空度
· 关键部件容易触及 ——系统维护变得直接简单
· X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力, 并且可以实现更快更可重复的匹配
· 通过前端软件进行设备故障诊断 —— 故障诊断速度快
· 用干涉法进行激光终点监测 —— 在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物),或者用反射法来确定非透明材料(如金属)的边界
· 用发射光谱(OES)实现较大样品或批量工艺的终点监测 —— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化,以及用于腔室清洗的终点监测
- 产品优势
- PlasmaPro 80 RIE 牛津等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。
- 德国Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积
- SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统
- 法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统 SSDR 150
- NexION 350 Series电感耦合等离子体质谱仪/ICP-MS
- 珀金埃尔默NexION® 1000G 电感耦合等离子体质谱仪
- NexION 1000电感耦合等离子体质谱仪ICP-MS
- 珀金埃尔默NexION电感耦合等离子体质谱仪/ICP-MS
- 赛默飞iCAP™ 7400 ICP-OES 等离子体光谱仪
- 赛默飞iCAP RQ 电感耦合等离子体质谱仪
- 赛默飞iCAP TQ电感耦合等离子体质谱仪
- 赛默飞iCAP™ 7200 ICP-OES 等离子体光谱仪
- Agilent 7800 电感耦合等离子体质谱仪