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多点纳米膜厚测量仪 C11295
- 品牌：日本滨松
- 型号： C11295
- 产地：日本
- 供应商报价： 面议
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滨松光子学商贸（中国）有限公司
更新时间：2024-02-04 13:42:48 -
企业性质生产商
入驻年限第9年
营业执照已审核
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联系方式：滨松客服400-074-6866
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- 详细介绍
- 详细参数
型号 C11295-XX*1 可测膜厚范围（玻璃） 20 nm to 100 μm*2 测量可重复性（玻璃） 0.02 nm*3 *4 测量准确性（玻璃） ±0.4 %*4 *5 光源 Xenon light source *6 光斑尺寸 Approx. φ1 mm*4 工作距离 10 mm*4 可测层数 Max. 10 layers 分析 FFT analysis, Fitting analysis 测量时间 19 ms/point*7 光纤连接头 SMA 外部控制功能 Ethernet 电源 AC100 V to AC240 V, 50 Hz/60 Hz 功耗 At 2ch: Approx. 330 VA, at 15ch: Approx. 450 VA 测量波长范围 320 nm to 1000 nm 接口 USB 2.0 (Main unit - Computer) RS-232C (Light source - Computer) 测量点数 2 to 15
* 1：-XX表示测量点的数量。
* 2：转换时玻璃的折射率= 1.5。
* 3：测量400nm厚的玻璃膜时的标准偏差（公差）。
* 4：取决于要使用的光学系统或物镜放大倍率。
* 5：测量范围保证在VLSI标准记录保证范围内。
* 6：卤素光源型号为C11295-XXH。
* 7：最短曝光时间。产品特性● 多达15点同时测量
● 无参照物工作
● 通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量
● 提醒及警报功能(通过或失败)
● 反射(透射)和光谱测量
● 高速、高准确度
● 实时测量
● 不整平薄膜精确测量
● 分析光学常数（n,k）
- ● 可外部控制
外形尺寸（单位：mm）
- 产品优势
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C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学，用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度，以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量，也可以在膜厚测量中同时测量反射率（透射率）、目标颜色以及暂时变化。
- 技术资料
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