驰奔DESK-V TSC高真空小型离子溅射仪

DESK-V TSC型小型离子溅射仪，采用磁控溅射方式，广泛用场发射扫描电镜或透射电镜样品制备或高质量镀膜试验。采用ZL的阳极保护栅网，实现镀膜过程中样品表面保持常温状态，没有热损伤。该溅射仪具有样品等离子清洗刻蚀功能，可选配蒸碳附件。

主要功能：

1、精细、超精细离子溅射导电膜制备；专业级金属膜层试验。

2、样品等离子刻蚀清洗

3、蒸碳镀膜

主要特点：

1、磁控溅射速度快。对于扫描电镜或透射电镜制样，抽真空-溅射-泄真空3分钟完成。

2、镀膜质量更高，可获得精细晶粒膜层，膜层结合力强度高。可使用结晶更细小的金属靶材。

3、对样品无热损伤的冷溅射。

4、样品等离子刻蚀功能，一个手动控制挡板降低样片在刻蚀过程中受到的污染。

5、基于PLC的强大控制系统，全部触摸屏操作，可手动、半自动控制、全自动控制。

6、真空高压互锁安全机制

7、标准的操作软件，实时监控各部件状态，方便技术支持，节约用户费用。

性能指标：

标准配置

样品室： φ150mm X 150mm(H) 不锈钢真空室，带观察窗

靶： 金GOLD或金钯合金GOLD/PALLADIUM（随机）φ50mmX0.1mm

样品台： φ50mm 旋转样品台

溅射电流： 0-100mA

真空规： 皮拉尼+热电偶

溅射气体： 氩气

真空泵： 85L/Min 机械泵

Pfeiffer 70 lps涡轮分子泵

15分钟抽到5E-6Pa 极限真空。获得超高真空环境，提高镀膜质量

选配

膜厚监控： 石英晶体膜厚监控器

样品台： φ75mm 旋转样品台

φ100mm旋转样品台（选此台，膜厚监控器无法安装）

旋转倾斜样品台 （选择此台，无法实现样品刻蚀功能）

蒸碳附件： 碳棒或碳丝绳