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EMPro-PV激光椭偏仪是针对光伏太阳能电池高端研发和质量控制领域推出的型产品。 EMPro-PV激光椭偏仪用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜镀层的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。EMPro-PV激光椭偏仪融合多项量拓科技专利技术，采用一体化样品台技术，兼容测量单晶和多晶太阳电池样品，并实现二者的轻松转换。一键式多线程操作软件，使得仪器操作简单安全。特点： 粗糙绒面纳米薄膜的高灵敏测量 先进的光能量增强技术、低噪声的探测器件以及高信噪比的微弱信号处理方法，实现了对粗糙表面散射为主和极低反射率为特征的绒面太阳电池表面镀层的高灵敏检测。 原子层量级的极高灵敏度和准确度 国际...

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EM01-PV-III产品（光伏专用）已升级至EMPro-PV型产品，主要升级内容包括： 单次测量速度提高3倍； 绒面测量精度提高66%； 新的仪器外形，整体稳定性增强。EM01-PV-III为太阳能电池测试专用激光椭偏仪，用于单晶硅、多晶硅以及薄膜太阳能电池的膜厚和折射率测量，产品提供单晶硅专用太阳能电池样品台。特点： 高精度、高稳定性 特定角度样品台，适合单晶硅太阳能电池的测量 适合绒面测量 操作简单 快速测量 快速、高精度样品方位对准 多角度测量 一体化集成设计 应用领域：单晶、多晶及各种薄膜太阳能电池的折射率和膜厚测量领域，既适合科研院所研究使用，亦适合工厂进行工艺研究分析和产线上产品检测。性能保证： 高稳定性的He-N...

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 EM01-RD产品（研发级）已升级至EMPro31 型产品，主要升级内容包括： 单次测量速度提高3倍; 新的仪器外形; 整体稳定性增强.纳米薄膜高端研发领域专用的产品，用于纳米薄膜的厚度、折射率n、消光系数k等参数的测量。适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。采用量拓科技多项专利技术，仪器操作具有个性化定制功能，方便使用。特点： 高精度、高稳定性  一体化集成设计 快速、高精度样品方位对准 多入射角度测量 快速反应过程的实时测量 操作简单 丰富的材料库及物理模型 ...

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EM13LD 激光椭偏仪系列是采用量拓科技先进的测量技术，针对普通精度需求的研发和质量控制领域推出的产品。    EM13LD激光椭偏仪系列采用半导体激光器作为光源，可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。    EM13LD激光椭偏仪系列采用了量拓科技多项专利技术。特点： 次纳米的高灵敏度 国际先进的采样方法、稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量极薄纳米薄膜，膜厚精度可达到0.5nm。 3秒的快速测量 国际水准的仪器设计，在保证精度和准确度...

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EM12是采用量拓科技先进的测量技术，针对中端精度需求的研发和质量控制领域推出的精致型产品。 EM12可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。    EM12采用了量拓科技多项专利技术。特点： 次纳米量级的高灵敏度 国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量极薄纳米薄膜，膜厚精度可达到0.2nm。 1.6秒的快速测量 国际水准的仪器设计，在保证精度和准确度的同时，可在1.6秒内快速完成一次测量，可对纳米膜层生长过程进行测量。 ...

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EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的型产品。EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。EMPro采用了量拓科技多项专利技术。特点： 原子层量级的极高灵敏度 国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量原子层量级的极薄纳米薄膜，膜厚精度达到0.01nm，折射率精度达到0.0001。 百毫秒量级的快速测量 国际水准的仪器设计，在保证极高精度和准确度的同时，可在几百毫秒内快速完成一次测量，可满足单原子膜...

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EM13 LD系列产品系列是采用量拓科技先进的测量技术，针对普通精度需求的研发和质量控制领域推出的产品。EM13 LD系列产品系列采用半导体激光器作为光源，可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。特点：次纳米的高灵敏度先进的采样方法、稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量极薄纳米薄膜，膜厚精度可达到0.5nm。3秒的快速测量国际水准的仪器设计，在保证精度和准确度的同时，可在3秒内快速完成一次测量，可对纳米膜层生长过程进行测量。简单方便的仪器操作用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰...

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纳米薄膜高端研发领域专用的产品，用于纳米薄膜的厚度、折射率n、消光系数k等参数的测量。适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。采用量拓科技多项技术，仪器操作具有个性化定制功能，方便使用。应用领域：EM01-RD 产品可对纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k进行快速、高精度、高准确度的测量，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发EM01-RD 产品可用于表征单层纳米薄膜、多层纳米层构膜系，以及块状材料（基底）。应用领域涉及纳米薄膜的几乎所有领域，如微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、电化学、磁介质存储、聚合物及金属表面处理等。

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EM12是采用量拓科技先进的测量技术，针对中端精度需求的研发和质量控制领域推出的精致型产品。 EM12可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。EM12适合于中端精度要求的科研和工业环境中的新品研发或质量控制。EM12 精致型产品可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。EM12 精致型产品可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化...

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特点：原子层量级的极高灵敏度先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量原子层量级的极薄纳米薄膜，膜厚精度达到0.01nm，折射率精度达到0.0001。百毫秒量级的快速测量产品国际水准的仪器设计，在保证极高精度和准确度的同时，可在几百毫秒内快速完成一次测量，可满足单原子膜层生长的实时测量。简单方便的仪器操作产品用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置。应用：EMPro适合于高精度要求的科研和工业产品环境中的新品研发或质量控制。EMPro可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。EMPro可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路...