供应商：苏州诺威特测控科技有限公司

     德国SENTECH公司 ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机－－－－-上海/苏州/无锡/南京/天津/北京/武汉/西安/杭州/济南/广州     SENTECH仪器（德国）有限公司研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器（光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪）、光伏测量仪器（在线和离线测量工具）和等离子工艺设备（产品、等离子沉积系统、原子层沉积系统、用户定制多腔系统）。    仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。    NOVTEC寓意“科技创新”，即诺威特测控科技有限公司，在德国、日本设有代表处，多年来致力于将世界品Pai的高科技产品带给ZG及亚洲的广大用户，并为客户提供完善的售后服务，协助他们提高生产技术水平、竞争力及增加盈利，专业从事工业测量与测试产...

供应商：南京覃思科技有限公司

K1050X等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成，同时两种处理气体流量针阀监控，全部或部分通气口控制。它的腔室为圆柱形，样品装载为抽屉式抽拉系统，方便使用。真空系统为旋转机械泵或可选用膜片泵作为前级真空的涡轮分子泵。在真空装载端口及SEM/TEM中特殊的清洁应用时，可方便更换抽屉式抽拉系统。此系统通常使用氧及氩的混合气体，氧去除有机物质（碳氢化合物），氩对样品表面进行刻蚀。 应用：● 石棉试样制备● 有机材料微观灰化● SEM&TEM中有机样品刻蚀● 去除光刻胶及电子元件中的包胶● 塑料品的表面处理● SEM/TEM中的样品夹清洗  特点：● 固态射频发生器及调谐电路● 全自动控制● 抽屉式结构● 两种处理气体● 紧凑的台式系统优点：● 低温灰化过程● 易操作● 装/卸样品方便● 可选择不同的混合气体● 节省空间● 注：我们建...

供应商：伯东企业（上海）有限公司

上海伯东美国考夫曼霍尔离子源于离子刻蚀 (IBE) 应用 Kaufman & Robinson,Inc (KRi) End Hall 上海伯东为美国考夫曼公司离子源 离子枪 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 大中华总代理.美国霍尔离子源 离子枪 EH200, EH400, EH1000, EH200, EH3000 系列不仅广泛应用于生产单位,且因离子抨击能量强, 蚀刻效率快, 可因应多种基材特性,单次使用长久, 耗材成本极低, 操作简易, 安装简易, 所以美国考夫曼霍尔离子源目前广泛应用于许多蚀刻制程及基板前处理制程. 客户案例: 国内某大学天文学系小尺寸刻蚀设备系统功能: 对于 Fe, Se, Te , PCCO及多项材料刻蚀工艺.样品尺寸: 2吋硅芯片.实际安装:刻蚀设备: 小型刻蚀设备. 选用上海伯东美国考夫曼霍尔离子源 EH400HC  ...

供应商：南京覃思科技有限公司

K1050X等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成，同时两种处理气体流量针阀监控，全部或部分通气口控制。它的腔室为圆柱形，样品装载为抽屉式抽拉系统，方便使用。真空系统为旋转机械泵或可选用膜片泵作为前级真空的涡轮分子泵。在真空装载端口及SEM/TEM中特殊的清洁应用时，可方便更换抽屉式抽拉系统。此系统通常使用氧及氩的混合气体，氧去除有机物质（碳氢化合物），氩对样品表面进行刻蚀。 应用：● 石棉试样制备● 有机材料微观灰化● SEM&TEM中有机样品刻蚀● 去除光刻胶及电子元件中的包胶● 塑料品的表面处理● SEM/TEM中的样品夹清洗  特点：● 固态射频发生器及调谐电路● 全自动控制● 抽屉式结构● 两种处理气体● 紧凑的台式系统优点：● 低温灰化过程● 易操作● 装/卸样品方便● 可选择不同的混合气体● 节省空间● 注：我们建议使用No. 2泵，       它具有“专用...

供应商：苏州诺威特测控科技有限公司

 德国SENTECH公司 ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机--上海/苏州/无锡/南京/天津/北京/武汉/西安/杭州/济南/广州           SENTECH仪器（德国）有限公司研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器（光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪）、光伏测量仪器（在线和离线测量工具）和等离子工艺设备（产品、等离子沉积系统、原子层沉积系统、用户定制多腔系统）。     仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。        NOVTEC寓意“科技创新”，即诺威特测控科技有限公司，在德国、日本设有代表处，多年来致力于将世界著名品Pai的高科技产品带给ZG及亚洲的广大用户，并为客户提供完善的售后服务，协助他们提高生产技术水平、竞争力及增加盈利，专业从事工业测量与测试产品的销售与研发...

供应商：苏州诺威特测控科技有限公司

德国SENTECH公司 ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机--上海/苏州/无锡/南京/天津/北京/武汉/西安/杭州/济南/广州 SENTECH仪器（德国）有限公司研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器（光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪）、光伏测量仪器（在线和离线测量工具）和等离子工艺设备（产品、等离子沉积系统、原子层沉积系统、用户定制多腔系统）。    仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。NOVTEC寓意“科技创新”，即诺威特测控科技有限公司，在德国、日本设有代表处，多年来致力于将世界著名品Pai的高科技产品带给ZG及亚洲的广大用户，并为客户提供完善的售后服务，协助他们提高生产技术水平、竞争力及增加盈利，专业从事工业测量与测试产品的销售与研发，拥有产品研发ZX、研究院和生产工厂，技术力量...

供应商：杰西（北京）科技有限公司

Cost-effectiveness 经济实惠 反应离子刻蚀机 Etchlab 200采用直接装片的平行板式等离子源设计。 Upgradeability 升级能力 Etchlab 200可方便升级，包括抽速更大的真空单元、预真空室及附加气路等。 SENTECH control software SENTECH控制软件 控制软件包括模拟用户界面，参数窗口，工艺程序编辑器，数据记录和用户管理。 Etchlab 200 RIE 刻蚀机是直接装载晶圆片等离子刻蚀设备，兼有平行板电极的优势。 Etchlab 200可以简单快速的装载直径200或300mm的晶圆片到载片盘或电极上，具有灵活、模块化和小型化的设计特点。上电极顶部有大尺寸观察诊断窗口，同时反应器能方便的容纳SENTECH激光干涉仪或者OES、RGA系统。 可以使用SENTECH椭偏仪通过专用的椭偏仪端口进行在线工艺监控。 Etchlab 

供应商：杰西（北京）科技有限公司

Process flexibility工艺灵活性 反应离子刻蚀机 SI 591系列兼容多种氯基或氟基刻蚀工艺。 Small footprint and high modularity设备小型化和高度模块化 Si591系列可设置为单腔系统或带盒式装片的多腔系统。 SENTECH control software SENTECH控制软件 控制软件包括模拟用户界面，参数窗口，工艺程序编辑器，数据记录和用户管理。 SI 591的真空装载片装置和完全由计算机控制工艺条件的软件系统，使其具优良的工艺重复性。灵活、模块化和小型化是SI591系统的设计特点，Z大能容纳200mm（8吋）的样品或载片盘。 SI591系统通过不同选件可实现穿墙安装或Z小占地面积。 大观察窗位于上电极顶部，反应器能方便的容纳SENTECH激光干涉仪或者OES、RGA系统。用SENTECH椭偏仪可以在设备上通过椭偏仪端口进行在线工

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

 牛津OXFORD System 100 等离子刻蚀与沉积设备  该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术， PlasmalabSystem100可以有很多的配置，详情如下。主要特点· 可处理8 "晶片，也具有小批量（6 × 2"）预制和试生产的能力· 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中，采用ZY机械手传送晶片，生产工艺中采用全片盒到片盒晶片传送. 采用一系列的电极进行衬底温度控制，其温度范围为-150 ° C至700° C· 用于终端检测的激光干涉和/或光发射谱可安装在Plasmalab Sys

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

ENTECH RIE SI591 平板电容式反应离子刻蚀机   商品描述：