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- 型号: CPC-B
- 产地:中国大陆
- 供应商:华仪行(北京)科技有限公司
关于CIF:华仪行(北京)科技有限公司全权负责CIF大中华区一切事务!CIF公司来源于美洲,服务于ZG,总部位于美国加州洛杉矶,是一家集实验室仪器设备研发、制造、销售、服务、产品应用为一体的专业化集团公司。CIFZG总部坐落于企业孵化器---北京国际企业孵化ZX(IBI),系中关村高新技术企业,具有自主进出口权。公司已通过ISO9001-2008 质量管理体系认证。CIF自成立以来,始终坚持以科技创新和发展为宗旨,发扬“诚信、务实、协作、共赢”的企业精神,以的研发团队,的设计理念,生产的产品,同时,公司一直努力寻求国内外合作,力求把Z新的、先进的仪器引进ZG来,为ZG实验室服务,为人类健康服务。 CIF所做的一切是为包括我们的股东、员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人提供创造和实现他们美好梦想的机会!CIF生产产品:样品前处理仪器:恒温电热板、
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ICP-500T 太阳能电池等离子刻蚀机
- 型号: ICP-500T
- 产地:山东 烟台市
◆ 外形尺寸(不包括报警灯) 1350(W)×800(D)×1750(H)mm ◆ 仓体结构(铝,约125升)500(W)×500(D)×500(H)mm ◆ 旋转平台Φ 400mm ,转速可调节 ◆ 等离子发生器(美国) 频率13.56MHZ,功率0-1250W连续调节,自动阻抗匹配,全电路保护,可连续长时间工作 ◆ 控制系统触摸电脑+PLC全自动控制,采用欧姆龙、西门子等世界品Pai电器元件,性能稳定可靠,并具有手动、自动两种模式 ◆ 真空系统(真空压力PID闭环自动控制)前级泵/ 英国爱德华爪式干泵 GV80二级泵/ 英国爱德华罗茨泵 EH250(70L/S) 美国MKS真空压力控制节流阀及薄膜式传感器 台湾气动真空角阀、充气阀、DN63不锈钢真空波纹管 ◆ 充气系统美国MKS高精度电子质量流量计(四路气体配制)美国世伟洛克气体管路及接口组件,德国双级减压阀日本
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德国 Sentech 等离子刻蚀机
- 型号: ICP-RIE SI 500
- 产地:欧洲
德国Sentech ICP-RIE SI 500 产品 详细介绍 Sentech ICP-RIE SI 500: 超高密度等离子体 纳米结构损伤小 由于离子能量分布较低,可以实现低损伤蚀刻和纳米结构。 简单高速腐蚀 高长径比MEMS用硅的高速率蚀刻是很容易进行的,无论是使用室温工艺...
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太阳能电池等离子刻蚀机
- 型号: ICP-500T
- 产地:中国大陆
◆ 外形尺寸(不包括报) 1350(W)×800(D)×1750(H)mm ◆ 仓体结构(铝,约125升) 500(W)×500(D)×500(H)mm ◆ 旋转平台 Φ 400mm ,转速可调节 ◆ 等离子发生器(美国) 频率13.56MHZ,功率0-1250W连续调节,自动阻抗匹配,全电路保护,可连续长时间工作 ◆ 控制系统 触摸电脑+PLC全自动控制,采用欧姆龙、西门子等世界品Pai电器元件,性能稳定可靠,并具有手动、自动两种模式 ◆ 真空系统(真空压力PID闭环自动控制) 前级泵/ 英国爱德华爪式干泵 GV80二级泵/ 英国爱德华罗茨泵 EH250(70L/S) 美国MKS真空压力控制节流阀及薄膜式传感器 台湾气动真空角阀、充气阀、DN63不锈钢真空波纹管 ◆ 充气系统美国MKS高精度电子质量流量计(四路气体配制
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CPC-A 等离子刻蚀机
- 品牌:CIF
- 型号: CPC-A
- 产地:中国
Plasma等离子清洗机 Plasma等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬,产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。Plasma等离子清洗机清洗原理: Plasma等离子清洗机产生的等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。 Plasma等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。Plasma等离子清洗机产品特点:采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性
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供应等离子刻蚀机专用真空泵 台湾进口旋片泵
- 品牌:BKV
- 产地:台湾
东莞比其尔真空机电设备有限公司:李小可 137 631 87986 :供应产品专用真空泵 台湾进口旋片泵东莞比其尔供应产品专用真空泵 台湾进口旋片泵,我司同时供应进口真空泵配件耗材,包括普旭,莱宝,里其乐,爱德华,爱发科,好利旺,阿尔卡特,普发,咨询订购。【产品专用真空泵工作原理】 产品,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中Z常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室...
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GH-3030D 等离子刻蚀机
- 型号: GH-3030D
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等离子体刻蚀机:产品,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式,这种设计的是富有弹性的,用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法:反应性等离子体(RIE),顺流等离子体(d...
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ICP等离子 RIE反应离子刻蚀机 ICP等离子 RIE反应离子刻蚀机
- 型号: ICP等离子 RIE反应离子刻蚀机
- 产地:江苏 苏州市
德国SENTECH公司 ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机--上海/苏州/无锡/南京/天津/北京/武汉/西安/杭州/济南/广州SENTECH仪器(德国)有限公司研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器(光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪)、光伏测量仪器(在线和离线测量工具)和等离子工艺设备(产品、等离子沉积系统、原子层沉积系统、用户定制多腔系统)。仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。NOVTEC寓意“科技创新”,即诺威特测控科技有限公司,在德国、日本设有代表处,多年来致力于将世界品Pai的高科技产品带给ZG及亚洲的广大用户,并为客户提供完善的售后服务,协助他们提高生产技术水平、竞争力及增加盈利,专业从事工业测量与测试产品的销售与研发,拥有产品研发ZX、研究院和生产工厂,技术力量雄厚。 SI 500...
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Nb oxford-instruments Cu刻蚀(反应离子刻蚀)-刻蚀铌
- 型号: Nb
- 产地:国外
oxford-instruments Cu刻蚀(反应离子刻蚀)-刻蚀铌ICP 感应耦合等离子体? 采用光刻胶作掩模,刻蚀速率150纳米/分钟? 对它下面的二氧化硅层的选择比大于10:1? 各向异性的外形? 100mm直径范围内均匀性公差+/- 3 %RIE 反应离子刻蚀? 采用光刻胶作掩模,氦气冷却,刻蚀速率70纳米/分钟? 对光刻胶掩模的选择比是1.1:1? 对于它下面的二氧化硅层的选择比是2.2:1? 各项异性的外形? 100mm直径范围内均匀性公差+/- 3 % Agilent 83497A 光电时钟恢复模块Agilent 8157A 光衰减仪Agilent 81637B 快速功率计Agilent 34570A 数字万用表Agilent 44476A 微波复用器模块Agilent 70004A 光谱分析仪Agilent 81000FI 光纤连接器Agilent 81002F
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Cu oxford-instruments Cu刻蚀(反应离子刻蚀)-刻蚀铜
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- 产地:国外
oxford-instruments Cu刻蚀(反应离子刻蚀)-刻蚀铜牛津仪器的铜刻蚀工艺技术离子束溅射失效分析用的ICP刻蚀 Agilent 83497A 光电时钟恢复模块Agilent 8157A 光衰减仪Agilent 81637B 快速功率计Agilent 34570A 数字万用表Agilent 44476A 微波复用器模块Agilent 70004A 光谱分析仪Agilent 81000FI 光纤连接器Agilent 81002FF 积分球Agilent 81521B 光功率计探头Agilent 81524A 光功率探头Agilent 8152 大功率光学探头Agilent 81533A 接口模块Agilent 81533B 接口模块Agilent 81536A 光功率计传感插件Agilent 81560A 可变光衰减器Agilent 81567A 可变光衰减器模块
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RIE/PE—反应离子刻蚀-等离子体刻蚀
优点 衬底电极被冷却 顶电极或底电极射频驱动(13.56兆赫兹) 自动开关 喷淋头式进气口(在顶电极上) 参数:气流、压强、射频功率牛津仪器的反应离子刻蚀和等离子体刻蚀工具: 特征 System80Plus System800Plus 电极尺寸 240mm 460mm