大面积金刚石自支撑膜机械抛光新技术3-1

立即扫码咨询

联系方式：15640436639

联系我们时请说明在仪器网（www.yiqi.com）上看到的!

3. 结果与讨论 3.1 不同研磨盘对金刚石自支撑膜磨抛速率的影响选用粒度为100/120 的金刚石粉分别在带槽盘和平面盘上以50r/min 的转速研磨1 小时，对金刚石自支撑膜进行粗抛，测量多点相对高度，取平均值评价磨抛速率，不同磨盘对金刚石自支撑膜磨抛速率的影响如图1 所示 26 27 28 29 30 31 32 33 50r/min 带槽盘平盘图1 不同研磨盘对磨抛速率的影响 Fig. 1 the effect of the different lapping plates on the polishing speed 从图1 可以看出，带槽盘对金刚石自支撑膜的磨抛速率快，有利于金刚石自支撑膜的粗抛过程因为带槽盘的工作原理增大金刚石粉与金刚石自支撑膜的切削力，并且提高金刚石粉的滚动几率，使得金刚石粉尽可能多地利用尖角磨削，从而提高磨抛速率但是带槽盘容易产生较多且深的划痕，故而不利于金刚石自支撑膜的细抛平盘对金刚石自支撑膜的磨抛属于温和型的，采用铸铁盘镶嵌金刚石粉的方式磨削金刚石自支撑膜，对金刚石膜的切削力主要靠镶嵌力来提供，故而相对恒定，可以促进金刚石膜表面粗糙度的降低，但磨削速率没有带槽盘大 UNIPOL-1260无级变速调压高精度研磨抛光机

仪器网（yiqi.com）欢迎您！