感谢S mart 2,明确地证明了CMP垫很大程度上都未充分利用,并且在它们有用的寿命还有一半以上时经常被丢弃。
就地计量学用于CMP中的垫面监测
S mart 2用于CMP监测
S mart 2配备了Sensofar的专利技术和高强度蓝色LED,将共焦、Ai焦点变化和干涉测量技术结合在一个传感器中[3]。为CMP应用构建的SensoPRO软件插件在S mart 2控制界面内为此应用提供了所有必要的工具和分析。
S mart 2传感器提供了一种独特的计量方法,与适当的浸没目标配合时,即使仍在抛光机上也能准确测量垫片的粗糙度。
监测槽阻塞 通过利用共焦和Ai焦点变化技术,可以迅速检测和监测槽的深度和宽度,从而有效地识别和跟踪槽阻塞。对于生产环境,通过SensoPRO软件插件可以进行自动分析,该插件独立地确定槽的宽度和深度,而不考虑其方向。
垫光泽监测
Smart 2及其与水浸没条件兼容的共焦技术可以在调节和抛光阶段后有效地表征垫面的粗糙度。监测垫的状态可以确定调节的Z佳时间和需要再生垫面的Z佳持续时间。这些功能有助于延长垫的可用寿命,Z小化对控制晶片的需求,并优化整个过程,从而避免对完成的晶片进行重新处理。
此图像显示了在抛光过程中垫的粗糙度高度如何变化。当抛光持续数小时时,可以在表面分布中观察到一个“光泽峰”。在整个过程中定期监测垫面使得可以干预并调节垫面,使其恢复到其初始状态。使用此信息优化您的抛光过程并获得一致的结果。
自动分析
Smart 2传感器使得对表面参数的精确控制变得容易。所获得的数据的分析可以被自动化,允许操作员将传感器放置在垫面上,获取测量值并获得报告。Sensofar的SensoPRO软件自动显示目标参数值以及特定容差的通过/失败报告,简化了流程并减少了出错的可能性。
SensoPRO是质量控制经理的强大工具,允许直接比较数据集并为CMP监测建立自动容差。有了SensoPRO,您可以快速且轻松地分析和比较数据,确保持续的质量和流程控制。
结论
CMP确保在晶片上构建的结构的平整性和功能性。随着技术的进步,CMP变得越来越重要,使其成为研究人员和制造商的关键关注领域。在这个背景下,现场表面测量对于监控CMP过程、降低成本和确保质量至关重要。Sensofar的新款S mart 2提供先进的采集和分析工具来支持CMP研究和质量控制。通过利用S mart 2的高级功能,研究人员和制造商可以优化他们的CMP过程,获得卓越的结果,并在一个迅速发展的行业中保持领先地位。
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