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光电检测器件中,光电子发射器件、光电导器件和光生伏特有何不同

远远872370361 2018-03-25 03:20:50 521  浏览
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全部评论(1条)

  • 观察820 2018-03-26 00:00:00
    个人理解:光电子发射器件一般属于电真空器件如光电倍增管等,是一种高灵敏度感光器件多用于各种检测仪器中,光电导器件如光敏电阻、光电三极管等是一种受光后电阻变小导电电流增大的器件,光生伏特器件主要有硅光电池、硒光电池等靠光生伏打效应工作的器件。

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TOF-SIMS在光电器件研究中的应用系列之三

一、引言

光伏发电新能源技术对于实现碳中和目标具有重要意义。近年来,基于有机-无机杂化钙钛矿的光电太阳能电池器件取得了飞速的发展,目前报道的最 高光电转化效率已接近26%。卤化物钙钛矿材料具有无限的组分调整空间,因此表现出优异的可调控的光电性质。然而,由于多组分的引入,钙钛矿材料生长过程中会出现多相竞争问题,导致薄膜初始组分分布不均一,这严重降低了器件效率和寿命。



图1. 钙钛矿晶体结构


二、TOF-SIMS应用成果

由于目前用于高性能太阳能电池的混合卤化物过氧化物中的阳离子和阴离子的混合物经常发生元素和相分离,这限制了器件的寿命。对此,北京理工大学材料学院陈棋教授等人研究了二元(阳离子)系统钙钛矿薄膜(FA1-xCsxPbI3,FA:甲酰胺),揭示了钙钛矿薄膜材料初始均一性对薄膜及器件稳定性的影响。研究发现,薄膜在纳米尺度的不均一位点会在外界刺激下快速发展,导致更为严重的组分分布差异化(如图2所示),最 终形成热力学稳定的物相分离,并贯穿整个钙钛矿薄膜,造成材料退化和器件失活。该研究成果以题为“Initializing Film Homogeneity to Retard Phase Segregation for Stable Perovskite Solar Cells”发表在Science期刊。[1]



图2. 二元 FAC 钙钛矿的降解机制。(A-H)钙钛矿薄膜的组分初始分布和在外界刺激下的演变行为。(I-N)热力学驱动下,钙钛矿薄膜的物相分离现象的TOF-SIMS表征


TOF-SIMS作为重要的表面分析方法,具有高检测灵敏度(ppm-ppb)、高质量分辨率(M/DM>16000)和高空间分辨率(<50 nm)能力。在本研究中利用TOF-SIMS对发生老化后(晶体相变)的钙钛矿薄膜进行表征,从2D元素分布图中观察到薄膜中的阳离子Cs与FA同时发生了分离(如图2所示),并形成尺寸为几到几十微米的相,将二者的元素分布图像叠加后(见图2 K),观察到分离后的Cs/FA偏析区域在空间上形成互补,证明了每个区域的组成与其晶体结构相关联。此外,TOF-SIMS 3D影像(图2L至2N)表明,垂直方向分布相对均匀,阳离子在不同深度上的聚集方式与表面类似。TOF-SIMS结合XRD和PL结果证明了由于阳离子的局部聚集,从而导致了相分离。


此外,从降解初期的FACs钙钛矿薄膜的TOF-SIMS图像中明显能观察到无色区域(见图3A)Cs的信号更强,表明了区域1(与图2A和E中标注位置一一对应)中的Cs+阳离子有迁移到区域2和3,进一步表明了该膜的降解是由Cs偏析和随后的相变所引起的。



图3. 二元阳离子FACs钙钛矿膜在降解初期的TOF-SIMS图


该研究采用Schelling的偏析模型,并结合TOF-SIMS及其他实验观察数据结果表明:

(1)钙钛矿薄膜初始均一性对薄膜的老化行为有显著影响:薄膜在纳米尺度的不均一位点会在外界刺激下快速发展,导致更为严重的组分分布差异化,最 终形成热力学稳定的物相分离,并贯穿整个钙钛矿薄膜,造成材料退化和器件失活。

(2)薄膜均一性的提升将显著减缓其老化速率:通过在钙钛矿前驱体溶液中引入弱配位的添加剂硒酚,有效调控了溶液胶体环境,提升了薄膜均一性。实验结果表明,均一性提升的薄膜在热、光老化条件下,表现了较好的稳定性,在实验周期内未出现显著的物相分离。同时,经过进一步的器件优化,所制备的太阳能电池器件展现了良好的光电性能,在1 cm²器件上,获得了23.7%的认证效率。在不同温度条件下,器件在LED光源持续照射下,也表现了良好的工作稳定性。


三、TOF-SIMS表面分析方法

飞行时间二次离子质谱仪(Time of Flight-Secondary Ion Mass Spectrometer,TOF-SIMS)是由一次脉冲离子束轰击样品表面所产生的二次离子,经飞行时间质量分析器分析二次离子到达探测器的时间,从而得知样品表面成份的分析技术,具有以下检测优势:


(1)兼具高检测灵敏度(ppm-ppb)、高质量分辨率(M/DM>16000)和高空间分辨率(<50nm);

(2)表面灵敏,可获取样品表面1-2个原子/分子层成分信息 (≤2nm);

(3)可分析H在内的所有元素,并且可以分析同位素;

(4)能够检测分子离子,从而获取有机材料的分子组成信息;

(5)适用材料范围广:导体、半导体及绝缘材料。



图4. TOF-SIMS可以提供的数据类型


目前,TOF-SIMS作为一种重要的表面分析技术,可以用于样品的表面质谱谱图分析,深度分析,2D以及3D成像分析,所以被广泛应用于半导体器件、纳米器件、生物医药、量子材料以及能源电池材料等领域。


参考文献

[1] Bai et al. Initializing film homogeneity to retard phase segregation for stable perovskite solar cells, Science (2022). https://doi.org/10.1126/science.abn3148


2022-12-05 13:11:13 153 0
TOF-SIMS在光电器件研究中的应用系列之二

PART 0
引言  


有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)是基于多层有机薄膜结构的电致发光的器件,用作平面显示器时具有轻薄、柔性、响应快、高对比度和低能耗等优点,有望成为新一代主流显示技术。然而,高效率和长寿命依然是阻碍OLED发展的重要因素,因为有机材料易降解和器件界面结构不稳定从而导致OLED器件失效。在此背景下,迫切需要了解器件的退化机制,从而在合理设计和改进材料组合以及器件结构的基础上,找到提高器件寿命的有效策略。



图1. 基于OLED柔性显示器件


 PART 0
TOF-SIMS表面分析方法  

研究有机/无机混合OLED器件的界面效应是提高其性能和运行稳定性的关键步骤。在众多分析方法中,飞行时间二次离子质谱仪(Time of Flight-Secondary Ion Mass Spectrometer,TOF-SIMS)是表征有机层及其内部缺陷的有效分析工具。TOF-SIMS是由一次脉冲离子束轰击样品表面所产生的二次离子,经飞行时间质量分析器分析二次离子到达探测器的时间,从而得知样品表面成份的分析技术,具有以下检测优势:

(1)兼具高检测灵敏度(ppmm-ppb)、高质量分辨率(M/DM>16000)和高空间分辨率(<50nm);

(2)表面灵敏,可获取样品表面1-2个原子/分子层成分信息 (≤2nm);

(3)可分析H在内的所有元素,并且可以分析同位素;

(4)能够检测分子离子,从而获取有机材料的分子组成信息;

(5)适用材料范围广:导体、半导体及绝缘材料。


目前,TOF-SIMS作为一种重要的表面分析技术,可以用于样品的表面质谱谱图分析,深度分析,2D以及3D成像分析,所以被广泛应用于半导体器件、纳米器件、生物医药、量子材料以及能源电池材料等领域。


PART 0
应用简介  

基于Alq3(8-hydroxyquinoline, aluminum salt,8-羟基喹啉和铝,分子结构见图2)的OLED器件,因其宽视角、高亮度和低功耗的特性,成为下一代平板显示器最有潜力的备选之一。这类器件具有“三明治”结构,在两个电极之间夹有多个有机层。对于OLED器件的研究不仅专注于探索有机材料,还要进行失效分析来确定故障(如显示黑点)产生的原因。在这里,我们展示了TOF-SIMS 对Alq3有机层进行了全面表征。



图2. Alq3的分子结构式


图3和图4均为市售Alq3材料在正离子模式下的TOF-SIMS谱。TOF-SIMS结果表明,利用Au+和Ga+离子源均可检测到Alq3碎片的质量特征峰,但Au+离子源对这些碎片的灵敏度更高。比如,对比相同离子电流下的Au+和Ga+离子束对质量数为315的Alq2分子碎片的灵敏度,发现前者灵敏度提高了23倍。此外,只有Au+离子源才能检测到质量数超过1000的质量片段。这些质谱体现出使用Au+源分析Alq3这类分子量较大的材料的优势。


图3. 正离子模式下Alq3的TOF-SIMS谱。分析条件: 一次离子束Au+,22 keV;样品电流:0.07 pA;分析面积:300 μm2;数据采集时间10 min



4. 正离子模式下Alq3的TOF-SIMS谱。分析条件: 一次离子束Ga+,15 keV;样品电流:0.3 pA;分析面积:300 μm2;数据采集时间10 min


此外,Alq3薄膜必须在高真空条件下沉积才能保持其完整性。为研究大气对Alq3薄膜的影响,分别对暴露在空气前后的样品进行了TOF-SMIS表征,结果如图5所示。TOF-SMIS证明了暴露大气后Alq3薄膜发生了分解,并且随着暴露时间的增长,AlqO2质量片段的强度增加,表明水分和氧气会显著改变Alq3的组成。



图5. 负离子模式下Alq3在大气中暴露前后在的TOF-SIMS谱。分析条件: 一次离子束Ga+,15 kev;分析面积:300 μm2


总之,三重离子束聚焦质量分析器(Triple Ion Focusing Time-of-Flight,TRIFT)结合Au+离子源能显著提高仪器的灵敏度和降低本底,增强TOF-SMIS检测Alq3等高质量数(大分子)材料碎片的能力。


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