Nanoscribe3D微纳加工技术开启自由曲面微光学新纪元

来源：纳糯三维科技（上海）有限公司分类：商机 2020-09-25 10:02:14 3240阅读次数

是否还在为高精度微光学元件制作而发愁？

是否还在苦苦寻找高折射率打印材料？

德国 Nanoscribe 公司推出针对微光学元件（如微透镜、棱镜或复杂自由曲面光学器件等）具有特殊性能的新型材料 – IP-n162光刻胶。全新的光敏树脂材料具有高折射率，高色散和低阿贝数的特性，这些特性对于3D微纳加工创新微光学元件设计尤为重要，尤其是在没有旋转对称和复合三维光学系统的情况下。

“使用IP-n162这样的高折射率光敏树脂可以实现强大的设计自由度。设计人员可以利用更少的时间和成本制造出更强大、更薄、弧度更小且更紧凑的微透镜。”Simon Thiele，由BMBF资助的同名衍生公司项目PRINTOPTICS和CTO项目参与人说道。这个项目由德国Nanoscribe公司携手斯图加特大学和Karl Storz医学技术公司，共同合作研发在用于内窥镜应用中的光纤上打印微型光学器件。

图为Nanoscribe公司高精度双光子微纳3D打印设备：Photonic Professional GT2 & Quantum X

以及新型材料IP-n162

全新IP-n162光刻胶是为基于双光子聚合技术的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可实现具有高精度形状精度的创新微光学设计，并将高精度微透镜和自由曲面3D微光学提升到一个新的高度。

主要特点：

高折射率光刻胶，在589nm波长下n = 1.62
低吸收率适合红外微光学，也是光通讯、量子技术和光子封装等需要低吸收损耗应用的ZJ选择
高色散低阿贝数

由于其光学特性，高折射率聚合物可促进许多运用突破性技术的各种应用，例如光电应用中，他们可以增加显示设备、相机或投影仪镜头的视觉特性。此外，这些材料在3D微纳加工技术应用下可制作更高阶更复杂更小尺寸的3D微光学元件。例如适用于AR/VR应用的微型成像系统和3D感测。

新型IP-n162阿贝数低至25，使其成为了Nanoscribe高色散光刻胶。用该款光敏树脂所打印的样品结构，其光学性能能接近常规用注塑成型技术制作的光学聚合物，例如聚碳酸酯（polycarbonate）或聚酯（polyesters）。IP-n162材料尤其适合用于制作消色散光学系统，即通过使用由较低折射率和较高折射率材料（例如IP-n162）打印并组和而成的复合光学元件。

图示结构由Simon Thiele设计，TTI GmbH TGU Printoptics, 由Nanoscribe打印制作

“在IP-n162光刻胶的使用过程中，我所实现的Z满意的设计是一个复杂的光学系统。该系统由两个具有完全自由曲面表面的透镜组成，以实现无失真的图像。集成衍射透镜的特点是在透镜顶部包含精细的阶梯结构，用来矫正色彩误差，而IP-n162打印材料的高折射率有助于减小这些阶梯结构并减少杂散光。”Thiele根据使用新型光敏树脂的经验说道。

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德国Nanoscribe 超高精度双光子微纳3D打印系统：

Photonic Professional GT2 双光子微纳3D打印设备

Quantum X 双光子灰度光刻微纳打印设备

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