[会议通知]PHI CHINA 2020 表面分析应用与学术研讨会(**轮)
随着科学技术的飞速发展,先进的表面分析技术已经成为材料、能源、催化、微电子、半导体产业以及钢铁工业等领域研究表面特性所必需的实验技术。在科学研究和产业领域,具备微区分析功能的表面分析技术对解决复杂问题具有重要作用。ULVAC-PHI,INC.在表面分析领域有着50余年的发展历史,专注于高灵敏、高能量分辨和高空间分辨技术研发,开发了一系列具有独特技术优势的表面分析设备,包括X射线光电子能谱(XPS)、反光电子能谱(IPES)、俄歇电子能谱(AES)、飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)以及串联质谱(Tandem MS / MSMS) 等,这些分析设备可以提供元素组分、化学态、电子结构和分子结构等关键信息,为表面特性研究及材料/器件性能提升起到了重要的作用。
为积极推动表面分析应用技术的发展,促进表面分析技术与其它学科的融合,更好地结合表面分析技术解决问题,同时加强同行之间交流与合作,展示相关的新成就、新进展,PHI CHINA拟于2020年10月22日-23日在北京理工大学中关村校区举办研讨会。此次会议由高德英特(北京)科技有限公司与北京理工大学材料学院学院分析ZX共同举办,旨在建立表面分析的交流平台,形成研讨的学术氛围,让思想碰撞出火花,并共同提升理论与技术水平,促进表面分析科学研究队伍的壮大。
诚邀国内外相关高校和科研院所的科研人员、科学领域的专家学者、技术人员进行技术研讨,共商合作,共谋发展。
一 会议时间与地点
时间:初步拟定为 2020 年 10 月 22 日-23 日
(会议Z终安排会根据国内疫情发展形势及相关政策要求做出实时调整)
地点:北京理工大学中关村校区 5 号楼 10 层
二 会议形式及内容
1、邀请报告
2、ULVAC-PHI,INC. 表面分析技术Zxin发展和应用
三 参会信息
1、参会费用和食宿安排
本次会议不收取会务费,参会人员的食宿费和交通费用自理。会务组会联系酒店为本次会议预留一定数量的房间,如有需要请提前告知。
2、参会报名
参会请扫下方二维码完成报名
四 联系方式
潘剑南 电话:18612300780
邮箱:nice.pan@coretechint.com
凌媚 电话:010-62519668
邮箱:may.领@coretechint.com
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