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三靶射频磁控溅射镀膜仪
- 品牌:合肥科晶
- 型号: VTC-3RF
- 产地:合肥
- 供应商报价: 面议
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合肥科晶材料技术有限公司
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企业性质
入驻年限第9年
营业执照
- 同类产品薄膜制备全套设备及耗材(1件)
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- 详细介绍
VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。
技术参数
输入电源
220VAC50/60Hz,单相
800W(包括真空泵)
等离子源
配有一13.5MHz,100W的射频电源(采用手动匹配)
可选配300W射频电源(自动匹配)
注意:100W手动调节的RF(射频)电源价格较低,但是每一次对于不同的靶材,都需要手动设置参数才能产生等离子体,比较耗费时间。300W自动匹配的RF(射频)电源,价格较昂贵,但比较节约时间(点击图片查看详细资料)
磁控溅射头
三个1英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接
靶材尺寸:直径为25.4mm,最大厚度3mm
一个快速挡板安装在法兰上
溅射头所需冷却水:流速10L/min(仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机)
真空腔体
真空腔体:256mmODx250mmIDx276mmH,采用高纯石英制作
密封法兰:直径为274mm.采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封
一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体(如下图)
真空度:<1.0×10-2Torr(采用双极旋片真空泵),<5×10-5torr(采涡旋分子泵)
载样台
载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热
载样台尺寸:直径50mm(最大可放置2英寸的基片)
旋转速度:0-20rpm
样品台的最高加热温度为700℃(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃
控温精度+/-10℃
真空泵
我公司有多种真空泵可选,请点击图片,或是致电我公司销售
薄膜测厚仪(可选)
一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10?
LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据
质保和质量认证
一年质保期,终生维护
CE认证
外形尺寸
使用注意事项
这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95%N2对真空腔体清洗2-3次,可有效减少真空腔体中的氧含量
请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内