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300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF
- 品牌:合肥科晶
- 型号: VTC-2RF
- 产地:安徽
- 供应商报价: 面议
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合肥科晶材料技术有限公司
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企业性质
入驻年限第9年
营业执照
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- 详细介绍
VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。
我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜
技术参数输入电源
220VAC50/60Hz,单相
800W(包括真空泵)
等离子源
一个300W,13.5MHz的射频电源安装在移动柜内
(点击图片查看详细资料)
磁控溅射头
一个2英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接
靶材尺寸:直径为50mm,最大厚度6.35mm
一个快速挡板安装在法兰上(手动操作,见图左3)
溅射头所需冷却水:流速10L/min(仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机)
同时可选配1英寸溅射头
真空腔体
真空腔体:160mmODx150mmIDx250mmH,采用高纯石英制作
密封法兰:直径为165mm.采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封
一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体
真空度:10-3Torr(采用双极旋片真空泵)
10-5torr(采涡旋分子泵)
载样台
载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热
载样台尺寸:直径50mm(最大可放置2英寸的基片)
旋转速度:1-20rpm
样品的最高加热温度为700℃,(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃
控温精度+/-10℃
真空泵
我公司有多种真空泵可选,请点击图片,或是致电我公司销售
薄膜测厚仪
一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监控薄膜的厚度,分辨率为0.10?
LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据
外形尺寸
质保和质量认证
一年质保期,终生维护
CE认证
使用注意事项
这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95%N2对真空腔体清洗2-3次,可有效减少真空腔体中的氧含量
请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内