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CVD管式炉(含预热腔体)-- OTF-1200X-4-NW

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详细介绍

OTF-1200X-4-NW-UL是一款用于CVD实验的小型管式炉,常用生长纳米线和各种薄膜。设备左端设计有一反应前驱体预热区,并在预热炉体上安装有各种接口。可导入气体、液体和放入固体反应物。主反应炉体中有一3英寸的样品台,用于盛放基片,样品台与右端滑轨法兰连接,以便于实验操作。

技术参数

炉体和预热腔体

  • 主反应炉体炉管尺寸:100mmO.Dx94mmI.Dx750mmL(石英管)

  • 最高工作温度为1100℃

  • 一个小型预热炉体,安装在设备左端,用于反应前驱体预热

  • 预热腔体为30mmOD×150mmL的不锈钢管

  • 右端安装有一滑轨法兰,以便于放样和取样

  • 在预热炉体和主反应炉体之间有一水冷法兰

  • 左端法兰上有4个气体接口(1/8英寸)(点击图片查看详细资料)

电源

单相,220VAC,50/60Hz

最大功率

3.6KW(需要20A的空气开关)

加热区

  • 主反应炉:440mm

  • 恒温区:100mm

  • 预热炉体:150mm

工作温度

主反应炉体:

  • 最高工作温度:1100℃(<2hrs)

  • 连续工作温度:1000℃

  • 最大加热速率:20℃/min

预热区:

  • 连续工作温度:RT~600

  • 最大加热速率:20℃/mi

温控系统

  • 主反应炉体和预热炉分别由两个独立的温控系统控制

  • 采用PID方式来调节温度,可设置30段升降温程序

  • 采用K型热电偶

  • 控温精度:+/-1

  • 可选购控温软件,可通过电脑来设置和显示温度程序

密封法兰

主反应炉体

右端法兰:

  • 水冷却法兰,通过冷却循环水对密封圈进行水冷(可在本公司购买循环水冷机)

  • 法兰上有KF25接口,可通过波纹管与真空泵相连接

  • 炉体内的样品台与法兰相连接,并且右端法兰为滑轨法兰,以便于放样和取样

  • 法兰上安装有一数显防腐真空计(如下图)

左端法兰(主反应炉体和预热炉体之间)

  • 2个1/8英寸的接口安装在法兰上,可通过这两个接头独立将任何气体导入到主反应炉体中

  • 1个1/8英寸的气体管道,将其气体通过预热腔体然后到主反应腔体中

重量

110kg

仪器尺寸

  • 右端法兰关闭时的尺寸:1580mm×458mm×585mm(62"LX18"WX23"H)

  • 右端法兰打开时的最大尺寸:2040mm×458mm×585mm(80"LX18"WX23"H)

质保

一年质保期,终身维护(不包含炉管、密封圈和加热元件)

质量认证

  • 质量认证

  • 所有电器元件(输入电压>24V)都通过了UL认证

  • 本公司所有高温炉都可通过TUV、UL或CSA认证


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