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柯达光刻胶PKP II

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详细介绍

柯达光刻胶
1、柯达纯化负胶PKP II
2、负胶显影液NPD
3、负胶去胶液
4、负胶用化学品
(1)负胶PKP II润洗液NPR
(2)负胶PKP II稀释液
5、正胶去胶液
6、光刻掩模板保护涂层2060
7、增粘剂HMDS
8、电子级溶剂和化学品
(1)丙酮
(2)醋酸正丁酯
(3)异丙醇
(4)甲醇
(5)2-丁酮(MEK)
(6)二甲苯
(7)40%氟化铵
(8)49%氢氟酸
(9)70%硝酸
(10)半导体级超纯去离子水

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