仪器网(yiqi.com)欢迎您!

| 注册
网站首页-资讯-专题- 微头条-话题-产品- 品牌库-搜索-供应商- 展会-招标-采购- 社区-知识-技术-资料库-方案-直播- 视频

应用方案

仪器网/ 应用方案/ 红外光谱法在硅中氧碳含量测定上的应用

立即扫码咨询

联系方式:400-822-6768

联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的!

       单晶硅材料可以用于制造太阳能电池、半导体器件等,由于其应用领域的特殊性要求其纯度达到99.9999%甚至更高。在单晶硅生产过程中由原料及方法等因素难以避免的引入了碳、氧等杂质,直接影响了单晶硅的性能。因而需对单晶硅材料中的氧碳含量进行控制。依据GB/T 1558-2009和GB/T 1557-2006,红外光谱法可以在对单晶硅中代位碳和间隙氧进行定性的同时进行定量测定,具有快速、方便、准确的优点。

相关产品

参与评论

全部评论(0条)

获取验证码
我已经阅读并接受《仪器网服务协议》

推荐方案

在线留言

换一张?
取消