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HVLP铜箔质量缺陷检测的“火眼金睛”

来源:上海西努光学科技有限公司      分类:应用方案 2024-07-17 11:15:09 82阅读次数

在电子制造行业中,高电压低电流(HVLP)铜箔的质量对印刷电路板(PCB)的性能至关重要。HVLP铜箔即高频超低轮廓铜箔,以其0.6微米以下的表面粗糙度和卓越的物理性能,成为高端电子产品的理想选择。这种铜箔以其高硬度、平滑的粗化面、良好的热稳定性和均匀的厚度,能够显著降低电子产品中的信号损失,从而在AI加速器、5G通信设备以及网络基板材料中发挥关键作用。传统的检测方法往往存在分辨率低、检测速度慢等问题,而激光共聚焦显微镜作为一种先进的检测技术,为铜箔缺陷检测提供了一种高效、精准的解决方案。

在HVLP铜箔的生产过程中,由于各种原因,可能会出现一些质量缺陷,如孔洞、裂纹、划痕、氧化等。这些缺陷虽然微小,但却可能影响到铜箔的导电性、耐腐蚀性以及机械强度,进而影响到电子产品的性能和使用寿命。
激光共聚焦显微镜是一种先进的光学检测设备,它结合了激光扫描技术和共聚焦成像原理,能够对铜箔表面进行快速、高分辨率的扫描与成像。该技术能够精确地识别出铜箔上的微小缺陷,如划痕、孔洞、颗粒物、表面粗糙度等,并对其进行量化分析。
高分辨率:激光共聚焦显微镜采用高精度的激光扫描系统,能够实现纳米级别的分辨率,确保即使是最微小的缺陷也能被准确捕捉。

快速检测:与传统的检测方法相比,激光共聚焦显微镜显著提高了检测速度,可实时进行高速检测,大幅提升效率。

非接触式检测:激光共聚焦显微镜采用非接触式的检测方式,避免了对铜箔表面的损伤,保证了样品的完整性。


自动化分析:设置好评估条件,智能实验管理助手将自动创建实验计划来节省您的时间,然后您只需准备好样品,将它们放置于载物台上,按下按钮—系统将为您完成后续工作,减少了人工干预,提高了检测的准确性和一致性。


在数字化、智能化的今天,OLS5100激光共聚焦显微镜缺陷检测技术的应用大大提升了铜箔检测的现代化水平。便捷、快速、高精度的特点使得它成为保障产品质量、优化生产流程的重要工具。

如果您有测试需求可以联系您身边的工作人员或拨打热线:400 680 7517,将为您提供专业的系统解决方案。




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最近更新:2024-09-05 09:08:16
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