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2021 年5月13日PHI CHINA举办的“2021表面分析应用与学术研讨会暨西部分会 ”在四川成都圆满落幕。

为积极推动表面分析应用技术的发展，促进表面分析技术与其它学科的融合， 更好地结合表面分析技术解决问题，同时加强同行之间交流与合作， 展示相关的新成就、新进展，此次会议邀请了多位在表面分析应用领域具有较深的造诣的专家 、教授们进行了高质量的交流报告，讲授了表面分析在各个研究方向的应用及发展，并与参会者积极交流探讨，现场气氛活跃。

成都大学 张坤教授作简短而真诚的开场致辞，从自身用户作为出发点，高度赞扬了PHI CHINA的表面分析仪器及完整的服务体系：

"店小二式"服务-响应及时，随叫随到;

"保姆式"服务-工程师解决并讲解问题，即“喂饱”又“喂好;

"妈妈式"服务-开展线上、线下的培训和会议，体现了商家与客户共生共赢价值理念。

PHI CHINA总经理 叶上远先生阐述了PHI CHINA表面分析的发展和展望

清华大学 姚文清 高级工程师

报告：光催化材料的表界面调控

电子科技大学 曾鹏 副研究员 

报告：Like a rolling stone:  Ultrafast spectroscopy of carrier dynamics in diverse materials

PHI CHINA 鞠焕鑫 博士 

报告：XPS 表面分析技术在材料科学研究中的应用

昆明理工大学 杨喜昆 教授 

报告：燃料电池碳基非贵金属催化剂活性位鉴定及结构调控

电子科技大学 李严波 教授 

报告：光电催化材料的表界面调控

PHI CHINA 鲁德凤 应用科学家 

报告：SIMS 和AES 的技术特点以及在材料表征中的应用

ZG科学院地球化学研究所月球与行星科学研究ZX 李阳 副主任 

报告：原位微区分析技术及行星科学应用

成都大学 王志君 副研究员 

报告：XPS 等表面分析技术在等离子体材料化学中的应用

合照

感谢本次会议的各位嘉宾老师的精彩报告

也感谢所有参会人员对PHI CHINA的支持

支持即动力

PHI CHINA将继续致力于

表面分析的探索及发展

未来请与PHI CHINA一路前行！