-
-
plasma设备 NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NPE-3000
- 产地:美国
- 供应商报价: 面议
- 那诺—马斯特中国有限公司 更新时间:2024-04-23 10:17:06
-
企业性质生产商
入驻年限第3年
营业执照已审核
- 同类产品PECVD等离子化学气相沉积系统(5件)
- 标签: pecvd设备 化学气相沉积系统 cvd化学气相沉积设备
-
为您推荐
- 详细介绍
NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述:NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到至大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵,腔体可以达到低至10-7 torr的真空。标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC.带有*气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求,无论是等离子强度、均匀度,还是要分别激活某些活性组份,这样系统可以覆盖z广的可能性来获得各种沉积参数。
NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统应用:
等离子诱导表面改性:就是通常所说的用等离子实现表面改性(如亲水性、疏水性等)
等离子清洗:去除有机污染物
等离子聚合:对材料表面产生聚合反应
沉积二氧化硅、氮化硅、DLC(类金刚石),以及其它薄膜
CNT(碳纳米管)和石墨烯的选择性生长:在需要的位置生长CNT或石墨烯。
特点:
台式系统
不锈钢或铝制腔体
极限真空可达10-7Torr
RF淋浴头,HCD或微波等离子源
高达12”(300mm)直径的样品台
RF射频偏压样品台
水冷样品台
可加热到的800 °C样品台
加热的气体管路
加热的液体传送单元
抗腐蚀的涡轮分子泵组
1路载体气体以及3路反应气体,带MFC
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
菜单驱动,4级密码访问保护
完整的安全联锁
- 产品优势
- NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,具有分形气流分布优势.样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵,真空可低至10-7 torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。
- 技术资料
-
- 产品文章
- 相关产品
- CVD设备 微波等离子化学气相沉积系统 那诺-马斯特
- PECVD设备 NPE-4000(ICPA)自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
- PECVD设备 NPE-4000(ICPM)ICPECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
- 德国IPLAS 微波等离子化学气相沉积系统CYRANNUS
- 法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统 SSDR 150
- 美NANO-MASTER的等离子增强化学气相沉积系统PECVD系统NPE-4000
- 德国Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积
- 微波等离子化学气相沉积系统
- 微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
- 电弧等离子体沉积系统
- YES-EcoCoat硅烷单层气相沉积系统
- 德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备