半导体行业解决方案之蚀刻液分析
蚀刻液是半导体制造流程中重要的化学品之一，其配方的成分含量和纯度，对器件的性能具有关键影响。ICP、IR、LC、MS均是常用的分析手段，专注液相色谱分离(LC)和质谱(MS)检测的分析平台研发，无论是提升日常分析的简易性，还是借助多一维分子量信息进行快速监控，均有对应的色谱质谱技术助力原料放行、配方研发、质控和问题溯源。
蚀刻液中的离子残留，在液相色谱分析中非常容易带来基线的波动和结果的偏差。在PEG组分分析中，质谱检测器(QDa)多一维质荷比的优势，可以助力更好地采集特定离子的谱图信息，降低背景基线干扰，日常质控方法更稳定。
流动相A：0.1%甲酸水
流动相B：甲醇
流速：0.5 mL/min
梯度条件：
%A 0.00 90.0 10.0
%B 5.00 90.0 10.0
进样量：10 μL
SIR采集：m/z 459.3聚乙二醇400
电离模式：ESI(+)
采样率：10 点/秒
毛细管电压：1.5 kV
锥孔电压：30 V
源内温度：300 ℃
图1.PEG400 SIR采集色谱图和质谱图(m/z459.36)。
在原料放行和过程分析中，需要把控品质和快速判断批次稳定性，但由于蚀刻液样品中的酸、金属盐等组分，在色谱分离前需要较为复杂的前处理步骤。而借助质谱的直接进样探杆，无需或只需很少的样品前处理，一次性玻璃毛细管蘸取样品插入质谱中进行表征。
该技术在Waters SQD2、Xevo家族串联四极杆、四极杆串联飞行时间质谱平台上均可轻松配置，扩展多样化进样分析能力，固体、液体、半固体均可实现质谱直接分析。
图2.ASAP操作流程(蘸取样品 - 插入质谱 - 自动触发采集)。
图3.利用ASAP快速表征PEG成分(不同供应商比较)。
质谱平台化的设计理念，让多种类样本分析能力大大提升，轻松应对半导体生产中涉及的各种材料。如您有兴趣了解完整解决方案，欢迎填写下方问卷，预约线上交流。
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半导体行业解决方案，涵盖光刻流程中所应用到的化学品分析，从液相色谱分离到高灵敏度质谱表征以及高分辨未知成分定性，提供快速高效的色谱质谱解决方案。从小分子到大分子，从日常质控、过程放行、到配方剖析，涉及光刻胶、蚀刻液、电镀液、研磨液等多种材料分析需求。
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