美国 KRi 离子源常见工艺应用
KRi 离子源常见工艺应用
通过使用上海伯东美国 KRi 离子源可以对材料进行加工, 真空环境下, 实现沉积薄膜, 干式蚀刻和材料表面改性等工艺.
KRi 离子源常见工艺应用
工艺应用 | 简称 |
In-situ substrate preclean 预清洁 | PC |
Ion-beam modification of material and surface properties | IBSM |
- Surface polishing or smoothing 表面抛光 | |
- Surface nanostructures and texturing | |
- Ion figuring and enhancement 离子计算和增强 | |
- Ion trimming and tuning 离子修整和调谐 | |
- Surface-activated bonding 表面激活键合 | SAB |
Ion-beam-assisted deposition 辅助镀膜 | IBAD |
Ion-beam etching 离子蚀刻 | IBE |
- Reactive ion-beam etching 活性离子束蚀刻 | RIBE |
- Chemically assisted ion-beam etching 化学辅助离子束蚀刻 | CAIBE |
Ion-beam sputter deposition 离子溅射 | IBSD |
- Reactive ion-beam sputter deposition 反应离子溅射 | RIBSD |
- Biased target ion-beam sputter deposition | BTIBSD |
Direct deposition 直接沉积 | DD |
- Hard and functional coatings |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项zhuan利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光工艺 IBF 等领域, 上海伯东是美国 KRi考夫曼公司离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯东版权所有, 翻拷必究!
相关产品
全部评论(0条)
推荐阅读
①本文由仪器网入驻的作者或注册的会员撰写并发布,观点仅代表作者本人,不代表仪器网立场。若内容侵犯到您的合法权益,请及时告诉,我们立即通知作者,并马上删除。
②凡本网注明"来源:仪器网"的所有作品,版权均属于仪器网,转载时须经本网同意,并请注明仪器网(www.yiqi.com)。
③本网转载并注明来源的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品来源,并自负版权等法律责任。
④若本站内容侵犯到您的合法权益,请及时告诉,我们马上修改或删除。邮箱:hezou_yiqi
参与评论
登录后参与评论