三维激光直写的优势
三维激光直写光刻机是一种用于物理学、信息科学与系统科学、材料科学、机械工程领域的仪器，于2012年12月24日启用。
三维激光直写采用高功率LED（λ：405nm）光源和全自动对焦、对准技术，长寿命、低功耗。采用专 利技术的LED固体光源和高精密光栅尺定位工作平台，可实现0.65um的亚微米分辨率光刻及0.6um的套刻精度。
三维激光直写主要功能：该设备是基于空间光调制器的直写光刻设备，用于制作光刻掩膜。
直写前预检查：软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。
三维激光直写的优势：
无需掩模，可实现纳米级精度的三维加工
自主研发的超高速加工方式，便于工业应用
拥有极小的拼接误差
适用高达12英寸的基材
全自动控制系统
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